二、Tergeo系列等离子清洗机的特点

1、13.56MHz高频射频发生器；

2、7英寸触摸屏控制界面，全自动操作；

3、标配75W版本，可选150W版本；

4、系统具有双等离子源。浸入式等离子源用于主动表面处理、光刻胶蚀刻。远程式等离子源用于温和的污染清除以及脆弱易损样品的表面活化。

三、技术参数

1、控制系统

1）操作界面：7英寸电阻触摸屏操作界面，支持多种工作方式。

2）程序控制：可编程，共有20个程序，每个程序有3个清洁步骤。

2、反应腔体

1）腔体材质：圆柱形石英玻璃舱；

2）腔体容积：5.6L；

3）腔体尺寸：内径：160毫米，深度：280毫米。

3、射频电源

1）射频频率：13.56MHz；

2）射频功率：标配0~75W；从0瓦到75瓦之间以1瓦间距连续可调，可选0~150W；。

4、等离子源

1）等离子强度探测器实时测量等离子源强度。

2）外置电极设计，高压电极不合等离子接触以避免金属溅射造成的样品污染。

5、气体控制

1）气路控制：标配一路MFC；可选配三路MFC；

2）质量流量计可以在0~100sccm之间控制气体流量；

3）一路(Venting and purging)气体入口用来快速给样品室放气和冲走残余处理气体。

请与迈可诺技术有限公司营销服务中心区域办公室联系!
客服热线：-8843     Email: taran_zhao@mycro.com.cn  

主营产品：匀胶机，旋涂仪，甩胶台，匀胶台，涂层机，涂胶机，涂膜机,旋转涂敷仪, HPC,PPC, PAC，SCE系列等离子清洗机， Cargille光学试剂，光刻机/曝光机，压力机, 压片机, 热压机，WABASH热压机, CARVER热压机,LAURELL匀胶机、HOT PLATE热板 烤胶机
Laurell匀胶机     Harrick等离子清洗机  PIE等离子清洗机 NDK热板烤胶机  PlasmaEtch等离子处理系统 Carver手动压片机  Uvitron紫外固化箱       Novascan紫外臭氧清洗机
Wenesco/EMS/Unitemp加热板  Laurell EDC系统，湿站系统        NXQ光刻机
Anatech等离子系统   Wabash/Carver自动压片机
公司名称:迈可诺技术有限公司
：赵先生 -8843     Email: taran_zhao@mycro.com.cn