合肥芯碁微电子装备股份有限公司：
在泛半导体与印制电路板（PCB）制造中，传统光刻工艺高度依赖昂贵且制作周期漫长的掩膜版。为打破这一限制，芯碁微装深耕微纳直写光刻技术，直接利用激光束在光刻胶上“绘制”复杂电路，*了泛半导体制造的“无掩膜”技术变革。
作为国内直写光刻设备领域的企业，芯碁微装的设备在各大高端制造领域加速渗透。在PCB及HDI（高密度互连）板领域，其激光直写曝光机（LDI）实现了对传统设备的全面替代；在要求更为苛刻的集成电路领域，公司的晶圆级封装直写光刻设备（WLP）和IC载板光刻设备，*卡位Chiplet*封装风口，设备可实现亚微米级别的高对准精度，*满足高端芯片高密度布线的曝光需求。
直写光刻设备的制造是一项融合了高频激光控制、*光学透镜设计与纳米级精密运动控制的极限工程。设备运行时，几十上百束激光高频闪烁，承载晶圆的运动平台以极高速度飞驰，同时需保持几乎为零的位置偏差。哪怕是设备内部电机产生的轻微热膨胀，都会导致曝光线条扭曲。
为了实现如此恐怖的物理精度，设备在研发组装与日常无尘室维护中，对高端MRO工业品极其依赖。设备内部的抗震光学平台需要*气浮元件，伺服控制需要高分辨率的日本索尼（MAGNESCALE）磁栅尺反馈；光学镜头的温湿度维持，更需要稳定的大浩研热（DAICO）环境控制系统和日本长野计器（NAGANO KEIKI）的高精气压监测。强大的高端MRO仪器仪表供应链，是保障这些精密光学设备平稳落地的*基石。
高斯摩(成都)国际贸易目前公司是国内西南部*的MRO供应公司： 具有优势的：CCS晰号速、SEN日森、EVE岩崎、USHIO牛尾、FUNATECH船越龙、HKARIYA光屋、SERIC索莱完、REVOX莱宝克斯、Nidec尼得科、ORIHARA折原、SONIC索尼克、YUASA尤安萨、EVELA东京理化、SANKO三高、NEWKON新光、HEIDON新东科学、SIBATA柴田科学、TAKASAGO高沙、MITUTOYO三丰、JKCO吉高、NPM日脉、AND艾安德、TOSEI东精、ONOSOKK小野、PISCO碧铄科、TOPCON拓普康、NDK电波工业、STANLEY史丹利、HIOS好握速、SATA世达、HAKKO白光、TOHNICHI东日、NITTO KOHKI日东工器、TAISE大生、日本MAGNESCALE索尼、日本KOSME考世美、OPTEX奥普士、ORC欧阿希、RKC、RION理音、OHM、KYOWA共和、YAMADA山田光学、ASKER、NSK、NBK、FREEBEAR、CHINO千野、COPAL科宝、AMANO安满能、HORIBA场、DELVO达威、TOMOE、SUMICO住矿、SATO、CKD喜开理、IMAO今尾、MASUDA增田、KETT凯特、MARUYAMA丸山、MARUI KEIKI丸井、KONSE近畿、TOYO、OSAKA、KAKUTA角田、FUJI富士、NAGANO KEIKI长野计器、HIOKI日置、OSAWA大泽、TOKYO KEIKI东京计器、ACCRETECH东京精密、ACE GIKEN技研、ADCMT爱德万、ADVANTEC东洋、AICHI TOKEI爱知时计、AIrTAC亚德客、AITEC艾泰克、AMADA天田、ANRITSU安立计器、ARIMITSU有光、ASAHI旭产业、ASONE亚速旺、SUGIYAMA杉山电机、TAMAGAWA多摩川、TRUSCO中山、ATAGO爱拓、ATEC爱泰克、ATLASCOPCO阿特拉斯、AZBIL山武、CEDAR思达、CEMEDINE施敏打硬、CHELIC气立可、CONVUM妙德、COSEL科索、COSMOS新宇宙、COSMO科斯莫、CUSTOM东洋、DAICO大浩研热、DDK东亚电波、DENSO丹索、DFAIC东仪、DSK电通产业、EIWA荣和、ELECOM宜丽客、EMIC爱美克、ESCO艾斯科、EXCEL艾库斯、EVELA东京理化、FANUC发那科、ULVAC爱发科、FUJIFILM富士、FUJILATEX不二精器、FUJISTAR三共理化学、FUJI不二空机、FUKUDA福田电机、FUSOSEIKI扶桑精机、GOE吴英制作所、GRAPHTEC图技、HANNA哈纳、HATAYA烟屋、HAYASHI林时计、HELLERMANNTYTON海尔曼太通、HITACHI日立、HOKUYO北阳、HONDA本多、HOYA、HRB哈尔滨、HUGLE联言、IDEC和泉、IIJIMA饭岛电子、IMADA依梦达、IMV艾目微、INFLIDGE英富丽、ISEL艾塞路、ITOH伊藤、IWAKI易威奇、IZUMI泉精器、JST日压、UNIPULSE优尼帕斯、日本UNITTA、日本KEM、SIGMAKOKI西格玛光机、SAKAGUCHI坂口电热。
