日本KOFLOC ST-500系列为全金属密封PI压力不敏感型热式MFC,专为半导体真空工艺、锂电烧结、光学镀膜高精度气体配比开发。内置独立压力检测单元,无需前端稳压阀,可直接适配管路压力波动工况;全量程自带温度+压力双重补偿,全程不受环境温压变化干扰,整机量程比高达50:1,覆盖微量小流量到大流量吹扫全场景,是高端自动化真空产线标配气体流量控制元器件。
采用恒温热式气体质量流量检测原理,实时采集气体分子质量流量,区别于体积流量计,无需二次换算;ST-500PI专属PI压力动态补偿算法,每10ms采集一次管路上下游压力,毫秒级自动调节内置比例阀开度。可抵消±20kPa管路瞬时压力波动,多路气体分流、真空泵启停、管路切换时,流量波动控制在≤±0.3%FS以内,解决普通MFC压力一变流量漂移、工艺良率下降问题。阀体采用全金属金属隔膜密封,无任何橡胶密封圈,全程无有机物析出。
标准量程:10SCCM ~ 30SLPM全覆盖
扩展量程:*支持100SLPM大流量定制版本
控制区间:2%~*FS全域线性可控,支持小流量精密调节
10%~*FS常规区间:±1.0%SP
2%~10%FS微小流量区间:±0.1%FS
整机重复性:±0.2%FS
全年零点漂移:≤±0.5%FS/年,无需频繁拆机校准
全域响应时间:≤1000ms
工作压差范围:50kPa ~ 300kPa
*耐受静压:1.0MPa
断电保护:断电瞬间阀门全关,切断气路,密封泄漏率≤1×10⁻⁹Pa·m³/s
精度保证工作温度:15℃ ~ 40℃
允许工作环境温度:0℃ ~ 50℃
储存温度:0℃ ~ 60℃
环境湿度:0~80%RH,无凝露即可长期运行
供电电压:标准DC24V±10%
额定功耗:≤18W
模拟信号:标配4-20mA标准信号
数字通讯:标配RS485,可选EtherCAT、DeviceNet工业总线
气路接口:标准1/4" VCR真空密封接头,支持现场快速拆装
SUS316L不锈钢EP电解抛光、镀金涂层、钴镍合金隔膜、PTFE辅材;适配高纯惰性气体、轻度腐蚀性工艺气体,满足半导体EP级洁净供气要求。
强抗压力干扰:耐受±20kPa突发压力扰动,流量偏差始终<0.3%FS,相比普通MFC抗干扰能力提升6倍,无需后端稳压装置,节省整机配件成本
极小流量高精度控制:2%满量程依旧保证±0.1%FS高精度,适配微量工艺气体精密配比,满足ALD纳米级镀膜严苛工艺要求
本地高清数显免上位机调试:机身实时显示设定流量、实际流量、管路压力、设备故障代码4组数据,现场调试效率提升70%
长周期免维护:整机无易损耗零部件,建议校准周期12个月/次,远优于普通MFC3个月一校准的运维频率
多协议无缝对接工控系统:同时兼容模拟量+总线通讯,可直接接入PLC、MES、上位机,支持100ms高频数据上传
ST-500 标准款:无压力补偿,适配压力波动≤±2kPa稳定气源,适合实验室、单一固定气源设备
ST-500 PI 主力款:内置压力补偿模块,适配量产自动化产线、多路分流供气,市面出货量*版本
ST-550 大流量款:专属优化阀体结构,适配30SLPM以上大流量腔体吹扫、大炉体保护气供气
氮气、氧气、氩气、氦气、氢气;氨气、硅烷等轻度腐蚀性特种工艺气体;不可用于强酸、氯气等强腐蚀气体。
半导体:CVD/PVD/ALD镀膜机、晶圆扩散炉、刻蚀机精密配气
新能源锂电:负极真空烧结炉、极片烘烤炉氮气保护供气
光伏及光学:薄膜镀膜、玻璃真空镀膜工艺气体控制
科研及工控:高精度动态配气平台、燃烧实验、分析仪器前端供气

