NIKUNI 20UND04A 一体式低汽蚀...

NIKUNI 20UND04A 一体式低汽蚀涡流泵

一、型号释义

20UND04A

  1. 20:管路通径 DN20(标准 PT3/4 内螺纹,可选卫生卡箍 / 法兰)

  2. UND:电机泵头一体直连再生涡流泵系列

  3. 04:配套电机功率 0.4kW

  4. A:标准通用机械密封(碳石墨 + SiC 组合密封)


二、核心工作原理

采用再生涡流涡轮(侧流道)结构,叶轮圆周多槽循环增压,区别于普通离心泵:

  1. 叶轮高速旋转在流道形成多层涡旋负压,自带自吸,无需前置引水;

  2. 特殊流道优化大幅降低汽蚀余量,液体接近沸点、管路混入微量气体也不会汽化断流;

  3. 输出压力平稳、脉动极低,低剪切,不会破坏药液、碳酸介质成分。

三、核心结构与材质

  1. 过流主体:SUS316L 不锈钢一体铸造,卫生抛光;Z 型镜面抛光 Ra≤0.4μm,标准款 Ra≤0.8μm,耐酸碱腐蚀、无析出,满足洁净车间标准;

  2. 机械密封

    • 标准 A/S:碳石墨 + SiC+PTFE/FKM,纯水、常规溶剂通用;

    • UND-J/Z 升级款:双碳化硅 SiC×SiC,耐高温、耐磨,适用于高纯度纯水、研磨液;

  3. 电机:IE3 高效全封闭风冷电机,IP55 防护,单相 220V / 三相 380V 可选,防爆 Pro-K 防爆电机可定制;

  4. 接口:标准 PT 内螺纹,可选卫生卡箍、法兰,支持 CIP 在位清洗。

四、关键性能参数

1. 流量扬程区间

  • 流量范围:8~330 L/min(0.5~20 m³/h)

  • *扬程:15~80 m(1.5~8 bar)

  • 电机功率:0.25kW~5.5kW

  • 转速:50Hz 2900rpm / 60Hz 3500rpm

2. 流体适配条件

  • 介质温度:常规 - 20~90℃;高温定制款* 120℃

  • 粘度:≤50 mPa・s(低粘度液体适配)

  • 汽蚀余量 NPSHr:*低 0.2~0.6m,远优于普通离心泵,负压罐、真空管路优势

  • 允许含气:液体夹带少量气泡仍可稳定输送,无气堵、无压力剧烈抖动

五、产品核心优势

  1. 低汽蚀余量:行业同级*,输送乙醇、丙酮、高温水、碳酸饮料等易汽化介质不气蚀,适配真空脱气、负压罐抽取;

  2. 整机小型一体化:泵头电机集成,占地面积大幅缩小,设备机柜、镀膜机、清洗机紧凑配套*;

  3. 洁净耐腐蚀:全 316L 过流件,无橡胶内衬污染,半导体纯水、医药注射用水、食品碳酸饮品合规;

  4. 低脉动低噪音:涡流增压无隔膜泵剧烈脉冲,流体扰动小,保护光刻胶、生物缓冲液;

  5. 长寿命易维护:碳化硅密封耐磨,一体式结构零件少,24h 连续运转稳定,维护周期长;

  6. 多介质通用:纯水、溶剂、药液、酒精、臭氧水、富氧水循环一机适配,密封规格按需更换。

六、典型应用行业

1. 半导体 / 电子制造

真空腔体冷却液循环、光刻胶稀释液输送、纯水负压供给、晶圆真空清洗机、镀膜设备载液循环;

2. 医药生物

纯化水、注射用水、高温清洗水输送,真空脱气系统、缓冲液低脉冲循环、无菌药液输送;

3. 精细化工

低沸点溶剂(甲醇 / 丙酮 / 乙醇)、高温反应料液、高纯试剂、催化剂增压输送;

4. 食品饮料

碳酸果汁、酒类、酒精清洗液输送,真空浓缩、蒸发设备供料,富氧水、臭氧水混合循环;

5. 通用工业设备

真空清洗机、印刷喷墨设备、小型冷却循环机组、实验室高低温水循环装置配套 OEM 泵。

七、同系列细分型号区分

  1. UND:电机泵头一体式,安装简单、体积*小,设备内置配套主流型号;

  2. UOD:联轴器分体直连款,大功率、高温工况可选,便于电机单独拆装维护;

  3. 密封版本:

    • UND-A/S:标准碳石墨密封,纯水、常规溶剂,高;

    • UND-Z/UND-J:双 SiC 碳化硅密封,耐磨耐高温,高纯度、微量颗粒介质。

八、配套可选配件

  1. 防爆电机 Pro-K 系列;

  2. 卫生级卡箍、法兰接口;

  3. 变频电机适配流量调压;

  4. 高温密封套件(120℃介质);

  5. 防震底座、过滤器配套模组。


 

 

 

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