VAT集团是全球*的高性能真空阀、多阀组件、真空模块和金属波纹管开发商与生产商，部位于瑞士，自1964年成立以来专注于真空阀门技术领域。VAT的产品和服务主要用于半导体、显示器、太阳能电池板制造，以及在特殊真空条件下运行的各种工业和研究应用。
真空隔离阀与用于控制流量的真空控制阀不同，其功能是在全开与全关之间切换，用于隔离真空系统中的不同区段，防止交叉污染，保护泵组和工艺腔室。隔离阀的可靠性、安全性和可用性是半导体无尘工艺真空阀的决定性*标准。
VAT真空隔离阀覆盖从高真空到极高真空的多种应用，主要系列包括：
| 型号系列 | 阀门类型 | 核心特点 |
|---|---|---|
| 01.0 | 小型高真空闸阀 | DN 16-50，VATMONOVAT技术，无摩擦，耐温250°C，通用隔离阀 |
| 10.8 | 高真空闸阀 | DN 63-320，VATLOCK技术，高真空隔离标准，无润滑剂 |
| 12.1 | 闸阀 | DN 63-320，VATLOCK技术，压力范围可达<10⁻⁷ mbar，分子泵隔离标准 |
| 15.0 | 隔离闸阀 | DN 63-160，低颗粒产生量、低冲击敏感性，*可达高真空<10⁻¹⁰ mbar |
| 15.1 | 高压隔离闸阀 | DN 63-160，极低的冲击和颗粒计数 |
| 15.2 | 高真空隔离闸阀 | DN 63-160，极低的冲击和颗粒计数 |
| 17.2 | 带保护环高压闸阀 | DN 63-200，专为污染工艺设计的隔离阀，保护阀机构 |
| 19.1 | 大型高压闸阀 | DN 400-2000，需要大直径的标准闸阀 |
| 19.2 | 大型高真空闸阀 | DN 400-2000，需要大直径的标准闸阀 |
| 20.3 | 蝶阀 | 在污染性和腐蚀性真空工艺中实现可靠的隔离 |
| 20.4 | 蝶阀（加长型） | 在污染性和腐蚀性真空工艺中实现可靠的隔离 |
| 21.0 | 蝶阀 | 紧凑设计，可靠的真空隔离 |
| 24.4 | 角阀 | 大流量下毫不妥协的可靠性 |
| 24.5 | 直列阀 | 大流量下毫不妥协的可靠性 |
| 26.4 | 高压角阀 | DN 10-80，用于抽空和放气高压真空系统 |
| 26.5 | 高压直列阀 | *可靠性 |
| 28.4 | 高真空角阀 | DN 16-63，极低的气体逸出性能 |
| 29.0 | 带软泵功能的高压角阀 | DN 25-80，无湍流或压力脉冲的泵送、排气 |
| 29.1 | 带软泵功能的高压直列阀 | 无湍流或压力脉冲的抽气、排气 |
| 47.1 | XHV射频全金属闸阀 | XHV至2 bar，用于存储环或微波传输线（DN 200） |
| 47.2 | XHV射频全金属闸阀 | XHV至2 bar，用于存储环或微波传输线（DN 40-160） |
| 48.1 | XHV全金属闸阀 | 高温环境，耐辐射108 Gy，DN 16-320 |
| 48.2 | XHV全金属闸阀 | 适用于高温环境（DN 63、100、160） |
| 54.1 | 高真空/特高真空全金属角阀 | XHV至2 bar，满足极端UHV要求 |
| 57.0 | XHV全金属角阀 | 适用于极端温度和辐射要求（DN 63-160） |
| 57.1 | XHV全金属角阀 | 适用于极端温度和辐射要求（DN 10-40） |
参数来源：
VATLOCK是VAT研发的密封技术，旨在提供可靠的密封，同时不产生任何摩擦，从而避免颗粒产生。其核心机制是在关闭终点位置进行机械锁定，即使在驱动失效的情况下也能保持阀门关闭状态，防止阀门故障。该技术已广泛应用于10.8和12.1等系列。
FLEX VATRING是VAT全金属角阀系列（54.1等）采用的“硬对硬”密封技术。这种动态全金属密封系统能够实现持续的密封和稳定的闭合力，并且能够以相当低的轴向力实现高密封力。密封件采用不锈钢制成，仅能弹性变形，可在侧面轻松更换。
| 项目 | 01.0 | 10.8 | 12.1 | 15.0 | 26.4 | 28.4 | 48.1 | 54.1 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 尺寸 | DN 16-50 | DN 63-320 | DN 63-320 | DN 63-160 | DN 10-80 | DN 16-63 | DN 16-320 | DN 16-63 |
| 压力范围 | 1×10⁻¹⁰ mbar 至 2 bar | 1×10⁻¹⁰ mbar 至 1.6 bar | < 10⁻⁷ mbar | 1×10⁻⁷ mbar 至 1 bar | 1×10⁻⁸ mbar 至 5 bar | 1×10⁻⁸ mbar 至 5 bar | XHV 至 2 bar | XHV 至 2 bar |
| 泄漏率（阀体） | < 5×10⁻¹⁰ mbar·l/s | < 5×10⁻¹⁰ mbar·l/s | < 1×10⁻⁹ mbar·l/s | < 1×10⁻⁹ mbar·l/s | < 1×10⁻⁹ mbar·l/s | < 5×10⁻¹⁰ mbar·l/s | < 1×10⁻¹⁰ mbar·l/s | < 1×10⁻¹⁰ mbar·l/s |
| 驱动器 | 手动/气动 | 手动/气动/三位气动 | 手动/气动 | 气动 | 手动/气动 | 手动/气动 | 手动/气动 | 手动 |
| 阀体材料 | 不锈钢 | 不锈钢 | 铝/不锈钢 | 铝/不锈钢 | 铝 | AISI 316L | AISI 316L | AISI 316L |
| 密封材料 | 铜/氟橡胶 | 氟橡胶/硫化密封 | 氟橡胶 | 氟橡胶 | 氟橡胶 | 氟橡胶 | 全金属 | 全金属 |
| 烘烤温度 | ≤ 250°C | ≤ 250°C | ≤ 150°C | ≤ 140°C | ≤ 150°C | ≤ 200°C | ≤ 300°C | ≤ 300°C |
| 辐射抗性 | — | 10⁵ Gy | — | — | — | — | 10⁸ Gy | — |
参数来源：
半导体集成电路制造对生产环境的洁净度要求极为苛刻。VAT真空隔离阀的主要功能包括防止回流污染、流速控制和泵隔离，可靠性、安全性和可用性是半导体无尘工艺真空阀的决定性*标准。
无颗粒设计： VAT真空隔离阀采用VATLOCK技术，可提供可靠的密封，同时不会在阀板密封处产生任何摩擦，从而避免颗粒产生。全金属闸阀系列采用FLEX VATRING“硬对硬”密封技术，密封件仅弹性变形，避免因摩擦产生颗粒。
耐腐蚀工艺： 17.2系列专为污染工艺设计，配备保护环机构，有效隔离腐蚀性介质。48.1/48.2全金属闸阀系列旨在高温环境（阀门温度高达300°C）以及具有腐蚀性和冷凝介质的高真空和极高真空应用中实现可靠隔离，还可抵抗高达10⁸ Gy的辐射。
高真空兼容： 10.8系列已成为DN 63–320 mm尺寸的高真空隔离标准，可提供带电磁阀的手动、气动和三位气动式三种类型。28.4系列高真空角阀基于可靠且坚固的核心设计，提供手动或气动驱动，适用于对气体逸出要求极高的UHV应用。
典型半导体应用场景：
半导体设备泵组隔离、Loadlock腔室隔断
半导体UHV腔体、电子束设备、科研高真空系统的腔体隔离
分子泵、离子泵前端隔离
薄膜沉积、真空镀膜工艺的真空回路隔离
半导体工艺腔室与泵之间的安全隔离与压力保护
极高真空（XHV）系统在高温、辐射环境下的可靠隔离
标准法兰： ISO-F、JIS、CF-F、ASA-LP/ASA，可集成客户法兰。
温度管理： 根据要求提供加热和冷却选项，阀板加热器为选件。
位置指示器： 阀门位置由带切换触点的双位置指示器指示，*可烘烤至140°C。
电磁阀： 标准电压为24 VDC，可根据要求提供其他电压。
附加端口： 粗抽（旁路）、排气或计量表端口可选。
| 领域 | 具体场景 |
|---|---|
| 半导体制造 | FAB高真空腔体隔离、Loadlock隔断、分子泵隔离、CVD/ALD/PVD工艺真空隔离 |
| 显示器制造 | 显示器面板生产系统的真空隔离 |
| 镀膜行业 | 玻璃和工具镀膜过程中的真空隔离 |
| 科研设施 | 高能物理学、同步加速器、存储环、激光技术、核聚变研究 |
| 太阳能电池 | 太阳能电池板制造过程中的真空控制 |
| 需求场景 | 系列 |
|---|---|
| 小型UHV隔离（DN 16-50） | 01.0（MONOVAT技术，耐温250°C） |
| 标准UHV隔离（DN 63-320） | 10.8（VATLOCK技术，UHV标准） |
| 高真空泵组隔离（DN 63-320） | 12.1（VATLOCK技术，经济可靠） |
| 低颗粒/低冲击敏感应用 | 15.0 / 15.1 / 15.2 |
| 污染工艺隔离（DN 63-200） | 17.2（带保护环） |
| 大直径HV隔离（DN | |
| 大直径UHV隔离（DN | |
| 高压角阀（DN 10-80） | 26.4 / 26.5 |
| UHV角阀（DN 16-63） | 28.4 |
| 带软泵功能角阀（DN 25-80） | 29.0 / 29.1 |
| 高温/辐射环境XHV隔离 | 48.1 / 48.2 |
| 全金属UHV/XHV角阀 | 54.1 / 57.0 / 57.1 |
| XHV射频全金属闸阀 | 47.1 / 47.2 |
