🎯 产品定位：深度集成的工具内静电控制
AeroBar 5225定位于半导体工艺设备内部的在线静电消除。与独立离子风机不同，它通过接口模块与设备控制系统深度集成，每个离子棒的参数均可独立调整，离子电流实时监测，系统报警和消息在设备控制器上显示，也可通过简单的FMS报警输出进行通知。其空气动力学设计和洁净室兼容材料，可在不干扰层流气流的微型环境中提供高效离子化。
全数字电路控制：实现更稳定的离子产生和长期离子平衡，离子产生输出、时间、警报阈值等参数可在广泛范围内设定。
脉冲DC方式：提供大范围除电能力，支持脉冲DC、稳态DC或待机三种工作模式，可应对长距离用途和气流弱的环境。
单晶硅发射器：采用行业**洁净的发射器材料，可更换，无掺杂剂或金属污染晶圆的风险。
闭环反馈控制（可选）：配合数字传感器，可在晶圆层面监测并维持电离性能，延长校准和维护周期。
离子电流监测：实时监测离子发射电流，具备预测性维护的阈值报警功能。
AeroBar 5225系统由离子棒和接口模块组成。
离子棒型号（共8种长度，其中3种专为EFEM设计）：
| 型号 | 长度（英寸） | 长度（厘米） | 适用场景 |
|---|---|---|---|
| 5225-22 | 22.4 | 56.9 | EFEM，紧凑工位 |
| 5225-28 | 28.4 | 72.1 | EFEM，标准工位 |
| 5225-36 | 35.7 | 90.7 | EFEM，宽幅工位 |
| 5225-44 | 44.4 | 112.8 | 标准长度，中型设备 |
| 5225-56 | 55.6 | 141.2 | 标准长度，大型设备 |
| 5225-64 | 64.4 | 163.6 | 标准长度，大型设备 |
| 5225-76 | 75.5 | 191.8 | 标准长度，大型设备 |
| 5225-84 | 84.4 | 214.4 | 标准长度，大型设备 |
接口模块：5200-IM6T，支持并供电至*多6个AeroBar 5225离子棒，具备FMS输出。
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 输入电压 | 24 VAC，50/60 Hz，1W（典型），由接口模块5200-IM6T供电 |
| 输出电压 | 0-20 kVDC，每个极性可独立调整（±10%） |
| 输出电流 | <15 μA，电流和电压受限 |
| 控制信号 | RS-485，来自接口模块 |
| 连接器 | RJ-11模块化插座 |
| 工作模式 | 脉冲DC、稳态DC或待机 |
| 时序设置 | 正负极性开关时序可设0-10秒，0.1秒增量 |
| 发射器 | 单晶硅，可更换 |
| 洁净度 | ISO 14644-1 Class 1（单晶硅发射器） |
| 臭氧产生量 | <0.005 ppm |
| EMI | 低于背景水平 |
| 尺寸 | 2.1"H x 1.2"W x 22.4" ~ 84.4"L（5.3 x 3.1 x 56.9 ~ 214.4 cm） |
| 重量 | 1.13 lb（0.51 kg）@ 22英寸棒体 |
半导体前道制造：EFEM（设备前端模块）的晶圆静电消除、光刻/薄膜/蚀刻工艺中的晶圆静电控制。
半导体后道封装：后端半导体处理设备的在线静电控制。
净环境：ISO Class 1及以上微型环境、工作站、不适用强制送风的场所。
EFEM设备前端模块：选 5225-22、5225-28、5225-36。
中型工艺设备：选 5225-44。
大型/大型设备：选 5225-56、5225-64、5225-76、5225-84。
需要软件控制和设备集成：5225 + 5200-IM6T接口模块。
独立使用，无需设备集成：可选 5225S（独立数字离子棒）。
