🎯 产品定位：独立智能，灵活部署
AeroBar 5225S与需要接口模块的5225系统不同，它将控制单元完全集成于棒身，无需外接控制器即可独立工作。这使得它能够灵活地集成到设备内部、工作站或洁净室区域，即使产线布局发生变更，也能快速响应，无需复杂的重新布线。
全数字电路控制：实现更稳定的离子产生和长期离子平衡，各项参数可在广泛范围内设定，输入数值即可获得高重复性，缩短 setup 时间。
脉冲DC模式：提供大范围除电能力，可灵活应对长距离或气流微弱的环境。
单晶硅发射器：采用行业**洁净的发射器材料，实现低颗粒特性，并规避电极材料导致的金属污染风险。
离子电流监测：实时监测离子发射电流，并具备预测性维护的阈值报警功能。
FMS报警输出：支持设备监控系统的报警信号输出，便于集成。
AeroBar 5225S提供从22英寸到84英寸共8种标准长度，其中3种专为EFEM（设备前端模块）设计。
| 型号 | 长度（英寸） | 长度（厘米） | 适用场景 |
|---|---|---|---|
| 5225S-22 | 22.4 | 56.9 | EFEM，紧凑工位 |
| 5225S-28 | 28.4 | 72.1 | EFEM，标准工位 |
| 5225S-36 | 35.7 | 90.7 | EFEM，宽幅工位 |
| 5225S-44 | 44.4 | 112.8 | 标准长度，中型设备 |
| 5225S-56 | 55.6 | 141.2 | 标准长度，大型设备 |
| 5225S-64 | 64.4 | 163.6 | 标准长度，大型设备 |
| 5225S-76 | 75.5 | 191.8 | 标准长度，大型设备 |
| 5225S-84 | 84.4 | 214.4 | 标准长度，大型设备 |
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 输入电压 | 24 VAC，50/60 Hz，1W（典型） |
| 输出电压 | 0-20 kVDC，±10%，每个极性可独立调整（通过IR手持遥控器Model 5570） |
| 输出电流 | <15 μA，内置电流和电压限制电路 |
| 离子发射方式 | 脉冲DC、稳态DC或待机模式 |
| 发射器 | 单晶硅（可更换）或钛金属 |
| 洁净度 | ISO 14644-1 Class 1（单晶硅发射器）；Class 3（钛金属发射器） |
| 离子产生时序 | 正负极性开关时序可设0.1-10秒，独立设定 |
| 臭氧产生量 | <0.005 ppm |
| EMI水平 | 低于背景水平 |
| 工作环境 | 16-35°C，40-65% RH（无结露） |
| 外壳材质 | ABS阻燃树脂 |
| 尺寸（高×宽） | 5.3 cm × 3.1 cm |
| 重量（22英寸棒） | 约1.02 kg |
| SEMI F47，RoHS |
AeroBar 5225S主要用于控制微小环境和工作站中的静电放电与颗粒污染，特别适用于不适用强制送风的场所，通常工作在具有层流气流的洁净环境中。
半导体前道制造：EFEM（设备前端模块）、光刻/薄膜/蚀刻工艺中的晶圆静电控制。
半导体后道封装：后端半导体处理设备的在线静电控制。
净环境：ISO Class 1及以上微型环境、工作站、不适用强制送风的场所。
长度选择：EFEM设备前端模块优先选 5225S-22、5225S-28、5225S-36；中型工艺设备选 5225S-44；大型/大型设备选 5225S-56 及以上。
控制方式：独立使用时，通过红外手持遥控器（Model 5570） 调整参数。遥控器若无按键操作，15秒后自动进入睡眠模式。
系统集成：若需与设备控制系统深度集成（如RS-485、GUI软件控制），则应选择 5225系统（需接口模块5200-IM6T），而非5225S。
电源与线缆：可使用 14-1538 电源（120V AC输入，24V AC输出，*多可连接10根离子棒），以及 33-1700-xx 菊花链电缆。
