JKG-3

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JKG-3型高精度光刻机 

JKG-3型高精度光刻机 
产品型号 JKG-3型高精度光刻机
     本机是制造中、大规模集成电路，传感器，表面波元件，磁泡，微波和CCD等器件的重要光刻设备。 
  主要技术参数：
1、适用的掩模尺寸： a、150*150*2.3mm（选购）  b、125*125*2.3mm  c、100*100*2.3（选购） 
2、适用的硅片尺寸： a、ф125mm（选购）  b、ф100mm  c、ф75mm（选购） 
3、曝光分辨率 2чm 
4、掩模与硅片之间的相对位移范围： X、Y±5mm，θ±5° 
5、掩模旋转范围： ±5° 
6、承片台的球座平面至掩模板面微调范围 0~1mm 
7、曝光灯源： 200W高压直流汞灯 
8、曝光谱线： 436、405、365（nm） 
9、曝光系统能量不低于 18mw/cm2 
10、曝光系统的照度均匀度： ф110mm范围内±3%；ф136mm范围内±5% 
11、显微镜的照明波长： ≈545nm 
12、曝光时间控制范围： 0~99.99S 
13、双目分离视场显微镜的放大倍数 
  （1）目镜共二种：10X,15X  （2）平视场物镜共三种：4X,10X,16X  （3）合成放大倍率：40X-240X 
14、分离视场调节范围 30~80mm 
15、真空接触压力： ≤-0.06Mpa 
16、供电电源 AC220V±10%  50HZ 
17、环境温度： 22±2°C 
18、相对温度： ≤60% 
19、净化等级： 100级 
20、外形尺寸： W960*D1000*H1400mm

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