AJA公司的A300系列磁控溅射靶枪是为了满足高真空薄膜研究的需要而设计的。它的多功能性设计在世界上是处于地位的，如模块化磁场排布、原位倾斜装置、在靶上集成的气环、圆锥形的靶罩以及其他高真空的设计等。A300系列高真空磁控溅射靶是目前市场上好的研究用靶。 A300系列磁控溅射靶为圆形靶，其直径的尺寸主要有1英寸、1.5英寸、2英寸、3英寸、4英寸等。其主要功能及特点：
- 可以做直流和射频溅射。
- 可以溅射磁性及非磁性材料。
- 模块化磁场排布。
- 冷却水和磁铁不直接接触。
- 高真空设计。
- 不需要拆卸可直接烤到200摄氏度。
- 工作压力范围宽（0.5-1Torr）。
- 有较高的溅射速率和沉积均匀性。
可选部件：
- +/- 45°倾斜装置。
- 原位倾斜装置。
- 集成在靶上的气环。
- 圆锥形靶罩，用于非轴向溅射。
- 高真空Z轴手动移动和气动挡板。
- 复合法兰。
- 其它特殊要求。
