KRI 霍尔离子源 EH5000F用于大尺寸光学蒸镀机

发布时间:2020-09-03

随着市场需求无论在于太阳眼镜光学镀膜 (AR coating), 智能型手机照相镜头 (Lens coating) 镀膜质量及效率都必须提高.


为了提高镀膜质量和生产效率镀膜制造商一般会选择离子源进行辅助镀膜有利于:
1. 填充密度提高折射率提高
2. 波长漂移减少
3. 红外波段的水气吸收减少
4. 增强了膜层的结合力、耐摩擦能力机械强度提高表面光洁度
5. 控制膜层的应力
6. 减少膜层的吸收和散射
7. 提高生产效率

伯东公司代理的美国考夫曼公司 KRI 霍尔离子源EH5000F 已*应用于光学镀膜中必须的辅助镀膜应用使得大尺寸光学镀膜机生产过程获得高生产良率.
KRI 离子源

 

KRI 霍尔离子源 EH5000F优点:

1. 高离子浓度 (High density), 低能量 (Low energy)

2. 离子束涵盖面积广 (high ion beam sharp)               

3. 镀膜均匀性佳

4. 提高镀膜品质

5. 模块化设计,保养快速方便

6. 增加光学膜后折射率 (Optical index)      

7. 全自动控制设计,做简易

8. 低耗材成本

9. 安装简易

 

伯东公司为 Kaufman & Robinson, Inc (KRi) 美国考夫曼公司大代理.

 

离子源发明人 Dr. Kaufman 考夫曼博士于1978年考夫曼博士在美国自行创立 Kaufman & Robinson, Inc. (KRi) 公司并历经30年离子源之改良及研发并取得多项目前已在光学镀膜 (Optical coating), IBAD (离子源助镀), IBSD (离子溅镀), IBE (离子刻蚀), DD (离子镀膜等等应用领域大量使用.

 

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵检漏仪质谱仪真空计美国 KRI 考夫曼离子源美国HVA 真空阀门美国 inTEST 高低温冲击测试机美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口的代理商.

若您需要进一步的了解详细信息或讨论请参考以下联络方式:

上海伯东罗先生                                   台湾伯东王*
 
www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

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