HACH哈希二氧化硅分析仪5500.KTO.S0.A1U产品须知

发布时间:2021-10-08

HACH哈希二氧化硅分析仪5500.KTO.S0.A1U产品须知

HACH哈希二氧化硅分析仪5500.KTO.S0.A1U产品须知

5500sc 二氧化硅分析仪仅需两升试剂,分析仪即可在无人看管的情况下运行长达 90 天;是 5000 系列的两倍。业界*的加压试剂输送系统消除了与泵相关的频繁维护。预测性诊断工具,包括哈希专有的 Prognosys 技术、警告 LED 和高可见度通知屏幕,可让您避免计划外停机。在摸索试管和吸管时,不再将试剂滴在仪器、地板或衣服上。只需将颜色编码的盖子与密封的试剂瓶匹配并轻轻扭转即可。Grab Sample In 和 Grab Sample Out 功能允许对倒入分析仪的抓取样品进行快速分析,并有助于从分析仪中取出样品以在实验室测试中进行验证。

HACH哈希二氧化硅分析仪5500.KTO.S0.A1U产品须知

特点

90 天连续运行时间

节省维护时间

避免停机

清洁、快速和简单的试剂更换

使用哈希实验室产品轻松验证,这样您就不会浪费时间进行猜测

测量原理:

比色法

安装:

墙壁、面板或桌子

通道数:

1

工作湿度:

5 - 95 % 无冷凝(仅限室内使用)

工作温度范围:

5 - 45 °C

输出:

4 - 20 毫安

范围:

二氧化硅

污染程度:

2/II

电源要求 (Hz):

50/60赫兹

电源要求(电压):

100 - 240 伏交流电

防护等级:

一世

范围:

0 - 5000 µg/L SiO 2

试剂消耗:

每 90 天 2 L 每种试剂,循环时间为 15 分钟

地区:

我们

继电器:

四;类型:未通电的 SPDT 继电器,每个继电器的额定值为 5 A 电阻,* 240 VAC

重复性:

± 0.5 µg/L 或读数的 ± 1 %,以较大者为准

响应时间:

通常,在 25 °C (77 °F) 下为 9.5 分钟;随温度变化

样品流速:

55 - 300 毫升/分钟

样品压力:

2 - 87 psi(预设压力调节器)

样品温度:

5 - 50 °C (41 - 122°F)

贮藏条件:

-20 - 60 °C

保修单:

12个月

重量:

20 千克(45 磅),不含试剂和标准品,36.3 千克(80 磅),含试剂


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