该设备是带有磁控管靶材的金属镀膜设备。用于8英寸晶圆等大面积样品的同时加工和多个样品的加工。
MSP-8in的靶电极沿靶金属表面形成多个同心磁场，通过在该磁场中俘获电子，提高了溅射靶金属的等离子体离子密度。磁场的强度被配置为使得被粘金属膜的厚度从靶的中心到外周是均匀的。
| 物品 | 规格 |
| 电源 | AC100V（单相100V）15A 3芯插头带地线 |
| 设备尺寸 |
宽 450 毫米，深 400 毫米，高 372 毫米 （设备重量 36.9 公斤） |
| 旋转泵 |
宽 234 毫米，深 500 毫米，高 264 毫米 G-101D（重量 25 公斤） |
| 涂装室尺寸 | 内径 230 毫米，高度 60 毫米 |
| 目标电极尺寸 | 直径200mm |
| 样品台尺寸 | 直径210mm |
| *样品尺寸（晶圆） | 直径200mm |
| 涂层不均匀 | ± 10% 或更少 |
