分级的操作法使底部的晶粒与上部未生长到产品粒度的相互分开，取出管插在底部，因此产品取出来的都是均匀的球状大粒结晶。Krystal型真空结晶器采用晶浆循环操作法，晶浆循环液量大，由生长段经过循环管到蒸发室再回到晶床之中是同一个晶浆浓度，有晶核存在时，过饱和的介稳区更窄，晶核发生速率也会大为减小，因此设备结晶疤垢生长也就比较缓慢，又由于加大了循环泵输液量，实际产量在相同的晶床截面条件下，可比分级操作法大若干倍。
A2F10W2P7
A2F10R7
A2F10L7
A2F10W7
A2F10R4P7
A2F10L4P7
A2F10W4P7
A2F10R5P7
A2F10L5P7
A2F10W5P7
A2F10R1Z1
A2F10L1Z1
A2F10W1Z1
A2F10R2Z1
A2F10L2Z1
A2F10W2Z1
A2F10R3Z1
A2F10L3Z1
A2F10W3Z1
A2F10R4Z1
A2F10L4Z1
A2F10W4Z1
A2F10R5Z1
A2F10L5Z1
A2F10W5Z1
A2F10R1Z2
A2F10L1Z2
A2F10W1Z2
A2F10R2Z2
A2F10L2Z2
A2F10W2Z2
A2F10R3Z2
A2F10L3Z2
A2F10W3Z2
A2F10R4Z2
A2F10L4Z2
A2F10W4Z2
A2F10R5Z2
A2F10L5Z2
A2F10W5Z2
A2F10R1Z3
A2F10L1Z3
A2F10W1Z3
A2F10R2Z3
A2F10L2Z3
A2F10W2Z3
A2F10R3Z3
A2F10L3Z3
A2F10W3Z3
A2F10R4Z3
A2F10L4Z3
A2F10W4Z3
A2F10R5Z3
A2F10L5Z3
A2F10W5Z3
A2F10R1Z4
A2F10L1Z4
A2F10W1Z4
A2F10R2Z4
A2F10L2Z4
A2F10W2Z4
A2F10R3Z4
A2F10L3Z4
A2F10W3Z4
A2F10R4Z4
A2F10L4Z4
A2F10W4Z4
A2F10R5Z4
A2F10L5Z4
A2F10W5Z4
A2F10R1Z5
A2F10L1Z5
A2F10W1Z5
A2F10R2Z5
A2F10L2Z5
A2F10W2Z5
A2F10R3Z5
A2F10L3Z5
A2F10W3Z5
A2F10R4Z5
A2F10L4Z5
A2F10W4Z5
A2F10R5Z5
A2F10L5Z5
A2F10W5Z5
A2F10R1Z6
A2F10L1Z6
A2F10W1Z6
A2F10R2Z6
A2F10L2Z6
A2F10W2Z6
A2F10R3Z6
A2F10L3Z6
A2F10W3Z6
A2F10R4Z6
A2F10L4Z6
A2F10W4Z6
A2F10R5Z6
A2F10L5Z6
A2F10W5Z6
A2F10R1Z7
A2F10L1Z7
A2F10W1Z7
A2F10R2Z7
A2F10L2Z7
A2F10W2Z7
A2F10R3Z7
A2F10L3Z7
A2F10W3Z7
什么是电流保护，动作原理如何？答：当线路发生短路时，重要特征是线路中的电流急剧增大，当电流流过某一预定值时，反应于电流升高而动作的保护装置叫过电流保护，过电流保护的动作电流是按大负荷电流来考虑的，其选择是靠阶梯形的时限来配合的。、什么叫速断保护，它有何特点？答：过电流保护启动电流是按照大于大负荷电流的原则整定的，为了保证选择性，采取了逐级增加的阶梯形时限的特征，这样以来靠近电源端的保护装置动作时限将很长，这在许多情况下是不允许的。
