半水基清洗采用的清洗流程如下：半水基清洗剂（超声波）-市水漂洗-水基清洗剂-市水漂洗-纯水漂洗-IPA脱水-IPA慢拉干燥此种清洗工艺同溶剂清洗相比大的区别在于，其前两个清洗单元：有机溶剂清洗只对沥青或漆片具有良好的清洗效果，但却无法清洗研磨粉等无机物；半水基清洗剂则不同，不但可以清洗沥青等有机污染物，还对研磨粉等无机物有良好的清洗效果，从而大大减轻了后续清洗单元中水基清洗剂的清洗压力。
A2F10W2P7
A2F10R7
A2F10L7
A2F10W7
A2F10R4P7
A2F10L4P7
A2F10W4P7
A2F10R5P7
A2F10L5P7
A2F10W5P7
A2F10R1Z1
A2F10L1Z1
A2F10W1Z1
A2F10R2Z1
A2F10L2Z1
A2F10W2Z1
A2F10R3Z1
A2F10L3Z1
A2F10W3Z1
A2F10R4Z1
A2F10L4Z1
A2F10W4Z1
A2F10R5Z1
A2F10L5Z1
A2F10W5Z1
A2F10R1Z2
A2F10L1Z2
A2F10W1Z2
A2F10R2Z2
A2F10L2Z2
A2F10W2Z2
A2F10R3Z2
A2F10L3Z2
A2F10W3Z2
A2F10R4Z2
A2F10L4Z2
A2F10W4Z2
A2F10R5Z2
A2F10L5Z2
A2F10W5Z2
A2F10R1Z3
A2F10L1Z3
A2F10W1Z3
A2F10R2Z3
A2F10L2Z3
A2F10W2Z3
A2F10R3Z3
A2F10L3Z3
A2F10W3Z3
A2F10R4Z3
A2F10L4Z3
A2F10W4Z3
A2F10R5Z3
A2F10L5Z3
A2F10W5Z3
A2F10R1Z4
A2F10L1Z4
A2F10W1Z4
A2F10R2Z4
A2F10L2Z4
A2F10W2Z4
A2F10R3Z4
A2F10L3Z4
A2F10W3Z4
A2F10R4Z4
A2F10L4Z4
A2F10W4Z4
A2F10R5Z4
A2F10L5Z4
A2F10W5Z4
A2F10R1Z5
A2F10L1Z5
A2F10W1Z5
A2F10R2Z5
A2F10L2Z5
A2F10W2Z5
A2F10R3Z5
A2F10L3Z5
A2F10W3Z5
A2F10R4Z5
A2F10L4Z5
A2F10W4Z5
A2F10R5Z5
A2F10L5Z5
A2F10W5Z5
A2F10R1Z6
A2F10L1Z6
A2F10W1Z6
A2F10R2Z6
A2F10L2Z6
A2F10W2Z6
A2F10R3Z6
A2F10L3Z6
A2F10W3Z6
A2F10R4Z6
A2F10L4Z6
A2F10W4Z6
A2F10R5Z6
A2F10L5Z6
A2F10W5Z6
A2F10R1Z7
A2F10L1Z7
A2F10W1Z7
A2F10R2Z7
A2F10L2Z7
A2F10W2Z7
A2F10R3Z7
A2F10L3Z7
A2F10W3Z7
Pb-感温包压力Pe-蒸发压力Ps-弹簧压力Pb=Ps+Pe,膜片不移动。当感温包压力上升，导致PbPs+Pe时，膜片向下移动，阀门打开，更多制冷剂流入蒸发器。当感温包压力下降，导致PbPs+Pe时，膜片向上移动，阀门关闭，流入蒸发器的制冷剂减少。冷系统储液器在高压条件下，压缩后的制冷剂蒸气在冷凝器中凝结为液体制冷剂。离开冷凝器后，液体流经储液器。储液器主要有两个功能。储液器对负荷变化造成的冷凝器液位变化进行补偿。
