使用离子束溅射法 (IBS) 沉积致密、低缺陷、高质量的薄膜。
采用特殊的抛光技术,我们使用表面粗糙度为Ra0.1nm或更小的低散射基板。
我们利用长年积累的薄膜设计技术,实现了反射率达 99.999% 的反光薄膜。
由于基板和薄膜引起的散射损失非常小,并且在构建空腔时可以预期非常窄的光谱宽度和高精细度。
有两种类型的波长 532nm 和 1064nm。
| 材料 | 合成石英 | ![]() |
|---|---|---|
| 涂层 | 正面:电介质多层高反射膜 背面:电介质多层增透膜 | |
| 入射角 | 0° | |
| 基材表面精度 | λ/10 | |
| 平行度 | <5″ | |
| 划痕 | 10-5 | |
| 有效直径 | 外径的80% | |
| 背面反射率 | <0.15% | |
| 形状 | 平面板 |
| 功能图 | 方面 |
|---|---|
![]() | ![]() |
| 零件号 | 自适应波长 | 外径 φD | 厚度 t | 反射率*1 | 损失*2 |
|---|---|---|---|---|---|
| TFHSM-12.7C06-532 | 532nm | φ12.7mm | 6毫米 | 99.995% | 20 ppm |
| TFHSM-25C06-532 | 532nm | φ25mm | 6毫米 | 99.995% | 20 ppm |
| TFHSM-25.4C06-532 | 532nm | φ25.4mm | 6毫米 | 99.995% | 20 ppm |
| TFHSM-30C06-532 | 532nm | φ30mm | 6毫米 | 99.995% | 20 ppm |
| TFHSM-50C08-532 | 532nm | φ50mm | 8毫米 | 99.995% | 20 ppm |
| TFHSM-12.7C06-1064 | 1064 纳米 | φ12.7mm | 6毫米 | 99.999% | 8 ppm |
| TFHSM-25C06-1064 | 1064 纳米 | φ25mm | 6毫米 | 99.999% | 8 ppm |
| TFHSM-25.4C06-1064 | 1064 纳米 | φ25.4mm | 6毫米 | 99.999% | 8 ppm |
| TFHSM-30C06-1064 | 1064 纳米 | φ30mm | 6毫米 | 99.999% | 8 ppm |
| TFHSM-50C08-1064 | 1064 纳米 | φ50mm | 8毫米 | 99.999% | 8 ppm |
*1 通过 CRD 方法测量的反射率可能因测量方法和测量条件而异。
*2 该值为参考数据。产品没有附加数据。