一、光学系统
1、帕邢-龙格结构，罗兰圆光学系统；
2、光栅焦距：350mm；
3、波长范围：130–800 nm；
4、检测器：不少于 12 块高性能线阵非镀膜 CCD；
5、像素分辨率：30pm；
6、光栅刻线：3600l/mm；
7、色散率：一级 1.2 nm/mm；
二、光室类型
1、真空型光室：采用全自动真空泵连续抽真空；
2、真空度监视软件：采用全自动真空度实时监测装置；
3、恒温型光室：光室温度自动控制恒温 34℃±0.5℃，不受外界干扰；
4、一次性铸造成型铝合金光室；
5、数字等离子发生器
6、全数字等离子火花光源技术
7、高效得益于紧凑的设计和半导体控制技术
8、高能预燃技术 (HEPS)
9、激发参数可通过用户界面由用户根据实际需求自定义进行设置2.3.5 频率 100–1000Hz
10、电流 1-80A
三、控制系统
1、Windows 操作系统，支持包括中文在内的多国语言；
2、具备氩气气压监视器、真空状态监视器、温度状态监视器、自动波谱漂移控制等功能；
3、全部或部分工作曲线标准化，运用单点或两点校准方法；
4、添加新校准曲线，在现有分析曲线上添加新标样；
5、台式电脑，配置不低于：处理器：AMD 双核 64X2 5200+，芯片 ：AMD 690G + AMD SB600，内存：1GB DDR 2，硬盘：>250 GB，光驱：DVD，显示器：19 寸液晶显示器；
6、数据输出，数据以多种数据形式存储，可连接各种标准打印设备，数据可通过互联网远程发送传输；
7、牌号数据库及自定义牌号输入/输出功能以及自定义公式输入功能；
8、增加基体数量以及元素种类可现场完成，且无需增加硬件配置。
三、优化的样品台
1、开放式样品台设计，满足大样品测试要求；
2、4mm 样品台分析间隙；
3、“喷射电极”技术轻松应对小样品及复杂几何形状样品；
4、低氩气消耗,待机时无须待机流量；
5、定制异性样品适配器；
6、不同基体无须更换火花台；
7、优化的杂质排出系统；
8、牢固的铜制样品台散热效果*；
四、电源
1、交流供电 190-230VAC， 三线，单相，50 Hz，无电磁干扰，输入电流为 16 安培。完好接地，接地电阻<5 欧姆；
2、功率 880 W (主机 350W，真空泵 500W，电脑 30W)；
3、平均功率 600 W（主机 350W，真空泵 500W，电脑 30W）；
4、待机功率 60W；
5、16 A 慢熔保险丝；
五、氩气
1、纯氩气, 99.999%; 氩气减压阀（专配减压阀）；
2、气压＞4MPa；
3、铜管传输；
六、环境
1、温度范围：10-50°C，温度变化：2°C/Hr, 10°C/天，相对湿度： 20-80% (非冷凝)；
2、分析范围：元素种类和分析范围详见附件 1；铁基体：中低合金钢、高锰钢、不锈钢，共计16个元素。
