直接测量压差
低供气压力操作
*的阀门架构
高速、高精度流量控制
零泄漏控制阀
借助 MultiFlo™ 技术，可以在不断开气体管线的情况下将 MFC 的配置保持在数千种不同的气体类型和流量范围。
显示屏显示流量、温度、压力和网络地址。
它支持 DeviceNet™、EtherCAT、® RS-485 L-Protocol 和模拟接口。
由于GP200直接测量压差，因此可以消除由于两个不同压力传感器之间的匹配和补偿而导致的测量不确定性，从而提高精度、可重复性和漂移性能。
GP200 差压传感器专门针对低压差测量进行了优化，现在可以使用 P-MFC 在较低的入口压力下实现更安全的晶圆厂操作。
下游阀门结构确保了独立于下游压力的精度，允许流量达到 1200 Torr 的高压。 快速关闭阀解决了上游 MFC 阀门设计中出现的非生产性配方等待时间或“尾部效应”，这些阀门需要额外的时间来排出内部容积的气体。
快速和的流量控制可在*的沉积和蚀刻工艺中实现更紧密、更的过程控制。
阀门关闭性能提高 100 倍
使用 MultiFlo，MFC™ 满量程流量范围可以减少到典型的 3：1 倍，而不会影响精度、量程比或规格泄漏，从而实现*的工艺和库存灵活性
方便的用户显示和独立的诊断/服务端口辅助设备安装、监控和故障排除
半导体制造
蚀刻
化学气相沉积 （CVD
需要高纯度全金属流路的气体流量控制应用
