二氧化碳光催化系统

发布时间:2026-01-12

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2. 二氧化碳光电催化系统(核心:光-电协同强化电荷分离)


3. 二氧化碳气体扩散电催化系统(核心:传质强化型电催化)


二、二氧化碳光催化技术边界与设备选型结

2.1体系划分逻辑

维度

内涵说明

反应条件

常压/高压(操作参数,非独立机理)

催化剂相态

均相(分子催化剂)/非均相(固体催化剂)

能量输入

光催化(仅光能)/光电催化(光+电)/电催化(仅电,含GDE系统)

传质强化

GDE为电催化/光电催化的阴极结构,提升CO通量


三、二氧化碳光催化与相关系统的研究内容划分

3.1体系划分与研究边界

光催化可按反应相态与反应器工况细分为:

1)非均相光催化(固体半导体/助催化剂,如TiO2CdSg‑C3N4等);

2) 均相光催化(分子催化剂,如Co(Ⅱ)配合物等);

3) 反应工况维度常用到常压/高压液相/气相来描述,并非独立反应机理;

4) 光电催化(PEC在光催化基础上引入外电场,强化电荷分离;

5) 气体扩散电化学池(GDE是电催化/光电催化中的一种传质强化型阴极结构,常用于CO2RR以提升气体到达活性位点的通量。上述划分与内涵可避免概念混淆:例如常压/高压是操作条件,均相/非均相是催化剂相态,“PEC/GDE”是器件与传质构型。


3.2各类系统的研究内容、解决问题与典型设备

体系

研究内容

主要解决问题

典型设备与关键配置

非均相光催化(常压/高压)

半导体光吸收、载流子分离/迁移、表面CO2还原(COHCOOHCH3OHCH4等);常压用于液相批式或流动相,高压多用于临界/高压釜以强化传质与溶解度

提升可见光利用、抑制e–h复合、提高选择性/稳定性;常压便于机理与筛选,高压探索反应工程与动力学

光化学反应仪(LED或氙灯,配滤光/单色器)、反应釜(可高压/温控/搅拌)、在线/离线GC(配13CO2同位素)、光功率计、pH/电导在线监测

均相光催化(常压/高压)

分子催化剂(如Co(Ⅱ)配合物)与光敏剂/牺牲剂协同;光物理光化学路径、活性中间体(如CoI–CO2•)与机理

明确构效关系、抑制HER竞争、提升选择性与周转数;常压利于光谱与机理,高压用于速率/选择性工程

分光光度计/瞬态吸收光谱、荧光/核磁共振、GC‑MS/LC‑MS、反应管/流动池、温控与避光组件

光电催化 PEC(常压/高压)

光电极构筑(如n‑TiO2BiVO4光阳极;p‑Si/n‑SiCdS、量子点等),异质结/助催化剂、界面电荷分离与界面反应;常压H型池,高压用于传质/动力学

降低过电位、提升多电子转移效率、实现规模化路径验证;常压机理与筛选,高压工程放大

三电极/双室PEC池(ITO/FTO电极、参比/对电极)、恒电位仪/电化学工作站、光源(AM 1.5G模拟光)、在线GCIPCE/ABPE测试系统

气体扩散电化学池 GDECO2RR

气体扩散电极(疏水碳/PTFE+催化层)、三相界面传质、局部微环境与选择性调控;可与PEC耦合

解决CO2传质限制、提升电流密度与FE、降低H2副反应;多用于电催化/光电催化阴极

气体扩散电极组件、流动电解池/膜电极(MEA)、质量流量控制器(MFC)、电化学工作站、在线GC与法拉第效率计算


3.3说明与要点:

1)非均相与均相光催化共同目标是提高η_light吸收×η电荷分离×η表面反应PEC通过外电场与能带弯曲进一步抑制复合;GDE通过三相界面显著提升CO2到达速率。

2)高压条件常用于提升CO2溶解度与传质,但需关注密封、安全与材料耐压;常压更利于机理研究与高通量筛选。


3.4光电催化与GDE的要点与*进展

1PEC的核心强化路径包括:优化半导体能带结构与光吸收、构建异质结/内建电场促进电荷分离、在界面引入助催化剂并加速界面反应动力学;常见构型有p型光阴极+暗阳极、n型光阳极+暗阴极、n型光阳极+p型光阴极三类,用于分别匹配还原/氧化半反应与外电路偏压。

2GDECO2RR中通过疏水层将气体定向输运至催化层,形成固三相界面,显著降低扩散层厚度,从而提升局部CO2浓度与电流密度、改善CO/H2选择性与稳定性;与PEC耦合可进一步降低阴极过电位需求。

3)代表性进展:

BiVO4/NiFe‑Ov光阳极AM 1.5G1.23 VRHE6.51 mA·cm2)耦合单原子Co‑N5阴极,在H型池实现CO 109.4 μmol·cm2·h1CO法拉第效率>90%;与硅太阳能电池集成后,太阳能到化学品转换效率达5.41%

半导体量子点(如CdSe/CdS QDs)在可见光下将CO2还原为CO,报道的速率可达~412.8 mmol·g1·h1、选择性~96.5%AQY32.7%;并实现了与有机氧化偶联的无牺牲剂耦合体系,同步获得频哪醇等高附加值产物。

 


四、实验设备选型与搭建建议

4.1光源与光路:

4.2.反应与电化学池:

4.3检测与计量:

4.4选型要点:


五、设备配置

技术类型

关键指标

设备配置示例

光催化(常压/高压)

光源波长、CO溶解度

氙灯光源+高压反应釜+GC

光电催化

光电流密度、起始电位

电化学工作站+石英窗口电解池+光源

气体扩散电催化

电流密度、产物选择性

RDE+气体扩散电极+离子色谱



二氧化碳光催化系统二氧化碳光催化系统Solar500.png波长可调OMNO.pngGY230.pngGY250.pngGC901.pngCHI600F工作站.pngCHI700F系列双恒电位仪.pngNBET-T2600紫外可见双光束分光光度计.png电解池.png

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