快光谱干涉厚度计

一、产品概述

FE-5000 系列光谱椭偏仪是高精度薄膜光学表征核心设备，基于旋转分析器法光谱椭偏测量原理，搭载自动可变测量角度机构与自动相位差板装卸模组，可覆盖全类型单层、多层、波长相关复合薄膜的纳米级厚度、光学常数高精度解析，适配半导体晶圆、光学镀膜、光伏功能涂层、微电子器件研发与量产质检，可与 MCPD 光谱采集系统、V-KF 真空管路配件联动搭建真空在线 / 离线检测平台。

二、核心硬件技术参数

1. ：Otsuka 大塚

2. 型号：FE-5000 系列光谱椭偏仪

3. 核心光路结构：旋转分析器式椭偏光路，集成自动相位差板装卸机构

4. 可变测量角度：全自动多角度可调，无需人工更换光路组件，适配不同薄膜、基底反射特性

5. 光谱波段：紫外 - 可见光 - 近红外连续光谱覆盖

6. 测量精度：纳米级薄膜厚度重复误差，多层膜拟合精度大幅优于传统固定角度椭偏设备

7. 样品适配：硅晶圆、玻璃、光学镜片、金属基底、柔性卷材薄膜，兼容 6/8/12 英寸晶圆

8. 运行工况：台式离线实验室机型，可搭配真空腔体组件实现真空环境薄膜原位检测

9. 配套系统：MCPD 多通道光谱仪、V-KF 系列 KF 真空波纹管 / 密封法兰、自动样品载台

三、核心创新技术优势

1. 全自动可变角度测量机构，全品类薄膜通用

内置电动多角度调节模组，无需人工拆装光路配件，自动切换入射角度，适配高吸收、高反射、薄、厚膜等各类光学特性薄膜，单台设备覆盖所有主流薄膜样品检测，省去多台设备采购成本。

2. 自动相位差板装卸机构，测量精度大幅提升

在传统旋转分析器光路基础上增加自动化相位差板切换模组，光路偏振补偿更*，消除弱信号、多层薄膜拟合失真问题，弱吸收薄膜、复杂堆叠膜层解析精度显著提升。

3. 全光谱同步采集，完整解析薄膜光学特性

宽波段光谱同步捕获，一次性获取全波段椭偏参数，同步拟合薄膜厚度、折射率、消光系数、各向异性光学常数，适配波长相关多层复合膜工艺研发。

4. 低析出洁净光路，半导体无尘制程适配

光路接触面电解抛光处理，无金属粉尘、离子析出，不会污染晶圆、光学元器件，整机可放置千级无尘车间用于芯片、光伏薄膜检测。

5. 自动化集成拓展能力

可搭配电动 XY 载台实现晶圆全域面扫描，联动上位机自动生成膜厚分布云图；配套真空 KF 管路组件可接入镀膜腔体，完成原位真空薄膜在线表征。

四、核心检测功能

1. 高精度解析单层 / 多层薄膜厚度、折射率、消光系数等完整光学常数；

2. 多角度自动光谱椭偏测量，适配任意光学特性薄膜，无样品类型限制；

3. 晶圆、光学基材全域膜厚均匀性扫描，输出二维厚度分布数据；

4. 真空腔体原位薄膜光学特性在线监测，适配 CVD/PVD 镀膜密闭制程；

5. 数据自动存档导出，完整留存工艺参数用于研发迭代、品质溯源。

五、典型应用场景

1. 半导体行业：硅晶圆氧化层、氮化层、光刻胶、多层介质堆叠膜高精度表征；刻蚀、镀膜工艺薄膜参数闭环管控；

2. 精密光学：增透膜、高反膜、分光膜、偏振薄膜多层光学常数与厚度检测；

3. 光伏产业：ITO 透明导电膜、钝化层、钙钛矿功能薄膜光学性能研发测试；

4. 科研实验室：*纳米涂层、各向异性功能材料、柔性薄膜椭偏光谱基础研究。

六、同系列薄膜检测设备选型区分

表格

七、使用注意事项

1. 含浓酸碱、卤素、氢氟酸腐蚀真空环境，需搭配内衬 PTFE 定制真空管路配件；

2. 测量前清理样品表面，无粉尘、油污、划痕，避免光路偏振信号畸变造成拟合误差；

3. 真空腔体配套 V-KF-P 无氧铜金属密封垫圈，橡胶密封件*使用温度 200℃；

4. 长期连续运行产线定期使用标准氧化硅校准片做整机光路精度。