日陶NIKKATO YTZ-S φ0.05–0.2mm MLCC介质粉纳米分散应用与热销型号全景解析玉科代理原装现货

来源:玉崎科学仪器(深圳)有限公司
发布时间:2026-09-20 11:45:41

玉科代理原装现货 日陶 NIKKATO 产品应用与热销型号全景解析

一、概况

日陶(NIKKATO)创立于1908年,部位于日本大阪堺市,是全球精密工业陶瓷领域的百年企业。以高纯工业陶瓷、研磨介质、高温耐火构件、热处理设备及测温组件为核心业务,长期为MLCC、锂电池粉体等制造领域提供关键耗材。

在研磨介质领域,日陶形成了氧化锆球、氧化铝球、氮化硅球三大产品线,覆盖从纳米级细研磨到工业粗磨的全场景需求。其中,氧化锆球采用东曹(TOSOH)提供的钇稳定氧化锆粉体制造,氧化铝球和氮化硅球则由日陶完成粉体配方与烧结工艺。

二、核心产品矩阵

日陶研磨介质按材质与纯度形成清晰的梯度体系,以匹配不同行业的污染控制要求和研磨强度需求。

产品系列 代表型号 材质 核心定位
氧化锆球 YTZ / YTZ-S / YTZ-GH Y-TZP(ZrO₂≥94.7%) 高密度、高韧性,纳米级研磨主力
氧化铝球(高纯级) SSA-999W / SSA-999S Al₂O₃≥99.9% 零金属污染,电子/半导体
氧化铝球(高纯入门) SSA-995 Al₂O₃≥99.5% 纯度与成本平衡
氧化铝球(通用级) HD / HD-11 / HD-2 Al₂O₃ 92–93% 经济型粗磨与干式研磨
氮化硅球 SUN-11 / SUN-15 Si₃N₄≥90% 非氧化物物料研磨,抗热冲击

三、热销型号详解

3.1 YTZ-5.0:氧化锆球“中粒径主力”

YTZ-5.0(φ5.0mm)是日陶YTZ系列中出货量*的规格,定位于中等硬度至硬质物料的大批量精细研磨。φ5.0mm的粒径在研磨效率与出料细度之间取得良好平衡——相比φ1mm以下微球,单颗冲击力更强、粉碎效率更高;相比φ10mm以上大球,研磨接触点更密集、出料粒度更细。对高粘性物料的湿式粉碎和分散尤为有效。

核心参数:密度6.0 g/cm³,维氏硬度1250 HV10,抗弯强度1200 MPa,断裂韧性6.0 MPa·√m,空磨磨损率0.4 ppm/h,球形度≥99%。主要应用于MLCC介质粉中细磨、固态电池正负极材料分散、磁性材料及精细陶瓷研磨。

3.2 YTZ-S微珠系列:纳米级研磨的性能上限

YTZ-S是YTZ系列的高性能增强版本,采用HIP热等静压工艺消除内部气孔,维氏硬度提升至1280 HV10,空磨磨损率降至0.3 ppm/h以下,球形度达到99.5%以上。微粒径覆盖φ0.03mm、φ0.05mm、φ0.1mm、φ0.2mm等规格,专为纳米级细研磨与分散设计。

其中φ0.05mm规格在同等体积下的填充数量是φ0.5mm球体的1000倍,可在高能量砂磨机中形成数以百万计的研磨接触点,实现小于100纳米的均匀粉碎。主要应用于MLCC介质粉纳米分散、半导体CMP抛光浆料制备、锂电池固态电解质纳米化以及注射用纳米药物制备。

3.3 YTZ-GH:医药GMP级研磨介质

YTZ-GH是日陶针对制药行业推出的研磨介质,遵循GMP等效体系生产,全程可追溯。该型号具有高生物安全性,适用于注射剂等非经口医药产品的原料处理,以及气溶胶产品的研磨分散。其高纯度、光滑表面和良好耐磨损性,保障了药物研磨过程中不引入影响安全性的杂质。

3.4 SSA-999W:氧化铝球旗舰型号

SSA-999W是日陶氧化铝球产品线中的*纯度等级,Al₂O₃纯度达到99.9%以上(可达99.99%),杂质量控制在100ppm以内,且对铀、钍放射性元素实施严格管控。密度3.9 g/cm³,维氏硬度1800 HV10,抗弯强度450 MPa,磨耗率仅15ppm/h,寿命8000小时。

其核心价值在于零金属污染——不引入铁、硅、锆等对电子材料有害的杂质。φ1–10mm规格定位于微米级精细研磨,φ15–25mm规格适用于中粗磨批量研磨。主要应用于MLCC介电材料、半导体封装填料、锂电池正极材料、稀土荧光粉以及医药食品级研磨。

3.5 SSA-995:高纯之选

SSA-995以Al₂O₃纯度99.5%定位在高纯系列的入门位置,密度3.8 g/cm³,硬度1500 HV10,压缩强度3000 MPa。在纯度与成本之间取得良好平衡,适用于电子陶瓷基板、精细化工等对污染敏感但预算适中的中端研磨场景。

3.6 HD系列:经济型通用研磨

HD系列(Al₂O₃ 92–93%)是日陶氧化铝球的基础产品线,包含HD(通用型)、HD-11(高强度型)和HD-2(干式型)三个型号。HD兼顾韧性与耐磨,适用于陶瓷原料和矿物粗磨;HD-11强度升级,适合瓷砖、釉料等高负荷研磨;HD-2专为干法研磨设计,在无水工况下耐磨稳定。粒径覆盖φ0.5–60mm全规格。

3.7 SUN-11:氮化硅球

SUN-11是日陶氮化硅球的核心型号,Si₃N₄含量≥90%,以优异的抗热冲击性和高硬度为特征,于氮化硅、碳化硅等非氧化物原料以及高性能材料的研磨与分散。在新能源领域,SUN-11用于硅碳负极、高镍三元正极及固态电解质(LLZO)的无铁杂质细研磨,实现零异相污染。

四、应用场景全景

4.1 电子陶瓷与MLCC

MLCC介质层厚度持续减薄至亚微米级别,对钛酸钡等介电粉体的粒径分布和污染控制要求极为严苛。日陶YTZ系列(尤其是YTZ-S微珠)用于介质粉的纳米级分散,将BaTiO₃研磨至亚微米乃至纳米级别。SSA-999W则用于对Zr污染敏感的场景,以99.9%以上的Al₂O₃纯度从源头切断金属污染路径。YTZ球已成为日系MLCC大厂的标配研磨介质。

4.2 新能源锂电池

日陶研磨介质覆盖锂电池材料制备的全工序链。YTZ-5.0用于正极材料(NCM、LFP)和负极材料的中细磨,YTZ-S微珠用于固态电解质和硅碳负极的纳米化处理,SUN-11氮化硅球用于对铁杂质零容忍的硅碳负极细研磨。SSA-999W则用于NCM/LFP正极浆料细化,可将D50控制在1μm以下。

4.3 半导体与CMP

在芯片制造的化学机械抛光(CMP)工艺中,日陶YTZ-S微珠用于制备氧化锆抛光浆料,*制程要求晶圆表面粗糙度低于0.2纳米。SSA-999W用于半导体封装填料的研磨,保障封装材料的介电性能。日陶的氧化铝保护管和热电偶同时服务于半导体制造中的高温热处理工序。

4.4 医药与生物制剂

YTZ-GH医药级氧化锆球专为GMP级药物研磨设计,适用于注射剂和吸入制剂原料的纳米混悬液制备。日陶研磨介质从原料到成品具有完整批次追溯体系,制造过程不使用重金属和溶剂,符合医药行业对研磨介质卫生安全性的严格要求。

4.5 涂料、油墨与精细化工

在涂料和油墨行业,YTZ系列承担高粘度物料的湿式粉碎与分散。φ1.5mm规格适合涂料、油墨等中等精度研磨,φ0.2mm微球用于*油墨和纳米涂料的解聚。HD系列则用于对纯度要求相对宽松的颜料和矿物填料的粗磨。

4.6 精密陶瓷与高温构件

日陶不仅提供研磨介质,还提供完整的精密陶瓷制品线:高纯氧化铝坩埚(CP/CPK-33系列)用于贵金属熔炼和粉体烧结,使用温度1600–1800℃;氧化锆坩埚ZR-Y系列适用于固态电解质和TGA热分析,*耐温1800℃;SA/SA-H高纯氧化铝管耐温1700℃,用于管式炉和热电偶保护套管;SSA-S绝缘管用于电炉、热处理设备的高温绝缘保护。

五、选型速查

应用场景 型号 关键理由
MLCC介质粉纳米分散 YTZ-S φ0.05–0.2mm 高球形度,纳米级均匀研磨
MLCC介质粉(Zr敏感场景) SSA-999W φ1–5mm 零Zr污染,纯度≥99.9%
锂电正极粗磨/中磨 YTZ-5.0 / YTZ-8 高密度高冲击力,效率优先
硅碳负极/固态电解质 SUN-11 / YTZ-S 零铁杂质,非氧化物物料适配
半导体CMP浆料 YTZ-S φ0.05mm 微粒径,球形度
注射用纳米药物 YTZ-GH GMP级,全程可追溯
涂料/油墨高粘度分散 YTZ-1.5 / YTZ-5.0 高密度克服粘度阻力
陶瓷原料粗磨 HD / HD-11 经济型,韧性好
干式粉碎 HD-2 专为干法设计,耐磨稳定

日陶研磨介质的选型核心逻辑在于污染控制等级与研磨能量需求的匹配:追求零金属污染的电子/医药场景优先选择SSA-999W或YTZ-GH;追求高研磨效率的粗磨/中磨场景选择YTZ-5.0及以上大粒径规格;纳米级细分散则依赖YTZ-S微珠系列。日陶通过氧化锆、氧化铝、氮化硅三大材质和从φ0.03mm到φ60mm的完整粒径覆盖,形成了从实验室研发到工业量产的全场景研磨解决方案。


六、日陶供货采购渠道


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项目负责人:林经理 ¹⁵⁸¹⁵⁵⁵099⁸ 


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