在半导体、光学、SMT 贴片、精密塑胶、光学膜片生产工艺中,静电极易吸附粉尘,造成产品划伤、异物不良,传统吹风式离子风机容易扬起灰尘,越吹缺陷越多。日本 TRINC 高柳 TAS-182NWM 无风离子风机,依托 TRINC 独创无风除电技术,解决精密产线静电 + 异物双重难题。
简介
TRINC(高柳),日本*静电对策设备厂商,专注无风式离子发生技术,主打无风除电 ®、无泄漏除电 ®,广泛应用于半导体、液晶、汽车零部件、印刷、薄膜、橡胶等制造行业,国内众多头部工厂、检测实验室选用。
TAS-182NWM 核心参数
- 产品型号:TAS-182NWM
- 除电方式:直流放电无风除电
- 除电距离:50mm~300mm
- 有效除电面积:400mm×400mm
- 除电时间:约 10s
- 离子平衡电压:±30V 以内
- 核心优势:无需吹风,不会扬起粉尘,不扰动层流,适合洁净工作台、光学组装工位
产品核心特点
✅ 无风除电技术:区别传统离子风机,不吹风,只释放离子中和静电,不会把地面、工作台灰尘吹到产品表面,大幅降低异物不良率。
✅ 稳定离子平衡,长时间连续运行漂移小,适合 24 小时产线不间断作业。
✅ 台式紧凑型结构,安装简单,可直接放置在洁净工作台、光学组装工位。
✅ 低功耗,运行安静,适配无尘车间、光学元件、SMT 元器件组装。
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