日本Otsuka大塚电子 MINUK光波动场三次元显微镜

Otsuka大塚电子 MINUK光波动场三次元显微镜

    MINUK 是日本大塚电子（OTSUKA）于2024年4月发布的一款光波动场三次元显微镜（3D Optical Wave Field Microscope）。它的核心技术是无需传统成像透镜，直接记录样品的光波信息，从而实现对透明/半透明材料内部纳米级缺陷和三维结构的非破坏、非接触、非侵入式观测。

核心特点

• 无需对焦，一次成像：解决了传统显微镜需要反复对焦的痛点。单次拍摄即可获取深度方向（Z轴）的信息，相当于一次获得数千张传统图像的数据量。

• 大视野与高分辨率并存：单次拍摄即可覆盖700×700μm的宽广视野，平面（X-Y）分辨率*可达488nm，深度（Z轴）分辨率高达10nm。

• “光波场”观测技术：无需成像透镜，解决了像差问题。通过捕捉激光穿过样品时因厚度和折射率变化而产生的波面变化，再经算法重构出三维图像。

• “数字重聚焦”功能：测量后可在软件中对任意深度和位置进行重新对焦，便于对样品的三维结构进行灵活的追加验证和分析。

规格参数

工作原理

1. 照射：用638nm的激光照射样品。

2. 感知：当光穿过样品时，其波面会因样品的厚度和折射率变化而发生改变。

3. 捕捉：一个波前传感器（Wavefront Sensor）会捕捉这种光波场的变化。

4. 重构：*，通过大塚电子独有的软件进行数值解析，将捕捉到的光波信息重建成清晰的三维图像。

应用领域

• 半导体与显示面板：检测透明薄膜、晶圆表面的纳米级划痕、缺陷和异物。

• 新材料与高分子：观察透明或半透明材料内部的填充物、气泡、相分离结构等。

• 精密制造与质检：对光学元件、玻璃、涂层等进行非破坏性的三维结构分析与质量控制。