CK-ME遮瑕膏真空均质乳化机

     遮瑕膏可视作粉底的一种,不同之处在于遮瑕膏比普通粉底具有更佳的遮盖力,且更贴合肌肤,持久不易脱妆。每个人脸上都会有这样那样的瑕疵,例如:黑眼圈、色斑、局部性的斑点、痘痘、微血管等等,运用遮瑕膏能的解决这些问题,还能让你的肌肤变得均匀、细致,更能持久地为彩妆加分,令你的自信,无惧迎向挑剔的眼光,质地越丰润的遮瑕膏,遮瑕效果越出众。


     针对这类基质粘度较大、固料含量较高的膏类产品,切可(上海)机械设备有限公司引进国外科技开发出CK-ME可倾真空式遮瑕膏均质乳化机。本机组由预处理锅、真空乳化搅拌锅、真空泵、液压系统、倒料系统、电器控制系统、工作平台等部分组成,具有操作简便、性能稳定、均质性能好、生产效率高、清洗方便、结构合理、占地面积少、自动化程度高等特点。



      CK-ME可倾真空式遮瑕膏均质乳化机优点:

     1. 机组采用上部同轴三重型搅拌器,液压升降开盖;

     2. 搅拌器转速是变频调控,快速均质搅拌器转速:0-3500r/min、慢速挂壁搅拌器转速:0-63r/min、均质器采用高剪切涡流式乳化搅拌机,慢速刮壁搅拌自动紧贴锅底及锅壁;

     3. 真空吸料,特别对粉底物料利用真空吸入避免粉尘飞扬;

     4. 整个工序在真空条件下进行,防止物料在高速搅拌后产生气泡,能达到卫生无菌要求;

     5. 配有CIP清洗系统,容器与物料接触部分采用SUS316L材料制造,内表面镜面抛光300EMSH(卫生级);

     6. 真空泵采用德国纳西姆(原西门子)公司产品、按钮采用日本富士公司产品、变频器采用日本松下电工、电器控制部分采用西门子公司产品;

    7. 完全符合GMP要求制造,是生产膏、霜等基质粘度大物料的理想设备。


   主要技术参数:


型号
有效容量

乳化马达

搅拌马达
外形尺寸
功率
KW R/min KW r/min 全高 电加热 蒸汽加热 
CK-ME-20 20 0.75 0-3000 0.37 0-40 1800 1600 1850 2700 9 3
CK-ME-50 50 2.2 0-3000 0.37 0-40 2700 2000 2015 2700 25 5
CK-ME-100 100 3 0-3000 1.5 0-40 2920 2120 2200 3000 27 9
CK-ME-0 1.5 0-40 3110 2120 2200 3100 27 9
CK-ME-200 200 4 0-3000 1.5 0-40 3150 2200 2200 3100 40 12
CK-ME-350 350 4 0-3000 2.2 0-40 3650 2650 2550 3600 50 16
CK-ME-500 500 5.5 0-3000 2.2 0-40 3970 2800 2700 3950 50 16
CK-ME-1000 1000 11 0-3000 4 0-40 3900 3400 30
CK-ME-2000 2000 15 0-3000 7.5 0-40 4850 4300 3600 120 50


      售前与售后服务:

  

      1. 所有由我公司提供的设备,我们将负责安装调试验收至产品合格,设备正常验收,进入生产;

      2. 亲自上门提供正常的设备操作培训(为需方培训多名工程技术人员,全面掌握生产工艺、设备日常维护、故障及生产管理);

      3. 所提供设备均保修一年(在保修期内,除需方因操作不当造成的原因外,所有因设备维修所产生的费用均由我公司负责);

      4. 我公司在接到维修报告,无特殊情况,本市多是小时,多四十八小时到达现场;

      5. 终身维护,在保质期外,如有设备故障,我公司派人来服务,维修零配件和其他不高于市场价格;

      6. 我公司将长期为顾客提供新的制造工艺、技术革新、市场动态等同类行业新情报信息;

      7. 购买设备前我们将提供咨询支持,也欢迎前来参观我们的工厂。


  




点击阅读全文 >>