一、产品名称：

卡介菌多糖核酸纳米高速胶体磨、迪苏高剪切胶体磨、斯奇康高速胶体磨、卡提素高速胶体磨、唯尔本胶体磨价格, 胶体磨厂家、多功能胶体磨、中试型胶体磨

二、IKN高速研磨分散机简介

IKN研磨分散机是一款集研磨和分散一体化的设备，是一项新的技术革新。研磨分散机是将胶体磨（锥体磨）+高剪切分散机一体化的设备，先研磨后分散，物料研磨后又瞬间进行分散，避免了物料的二次团聚。IKN研磨分散机转速可达14000rpm，线速度44m/s，剪切速率强，也称“高速研磨分散机”

三、IKN高速研磨分散机介绍

1、CMSD2000研磨分散机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在45DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到更低，保证机器连续24小时不停机运行。

2、CMSD2000研磨分散机有一定输送能力，对高固含量有一定粘稠度物料，CMSD2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子，进行物料的推动输送;所有与物料接触部位均为316L不锈钢，机座采用304不锈钢;特殊要求如：硬度较大物料，对铁杂质要求严苛的物料，管道有一定压力并且需不间断运转的工况，可选磨头喷涂碳化物或陶瓷;CMSD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计，可通冷却或者升温介质。

四、IKN胶体磨与guo内其他胶体磨的比较

转速：guo内胶体磨50HZ时转速一般为3000rpm

上海IKN设备在50HZ时设备转速高达7890/13789RPM ，可以通过变频调速，同时可通过皮带加速 依肯的轴承可以承受140000RPM(转速是他们的3-4倍，研磨的力度也是国内胶体磨的3-4倍，这样研磨的细度更小)。

设备结构：guo内胶体磨设备的结构设计为三道磨碎区，一级为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三级为微磨碎区，沟槽是直线，同级的沟槽深度一样

上海IKN设备的设备结构为三道磨碎区，一级为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三级为微磨碎区，虽然都是三级结构，但是他们的设计不同理念不同，形状及齿列的结构，沟槽是曲线，上下深度不一，上深下浅，配置有金属碳化物或陶瓷涂层的锥型转子/定子，具有良好的粉碎效果，耐磨及耐腐蚀。

大线速度：guo内胶体磨设备能达到的大线速度大约在10-15M/S

在相同直径磨头下，上海IKN设备线速度可达

V= 3.14X0.055X7890/60=23 M/S

V=3.14X0.055X13789/60=40 M/S

大作用力：guo内胶体磨作用力大约在14293至215440 S-1

上海IKN设备的作用力为F=23/0.7X1000=32857 S-1

F=40/0.7/X1000=57142 S-1

而对CMO模块头，磨头的间歇G理论可以无限小，但是由于高速的运转，造成轴的振动，需要一定的间歇，作用力可以无限大，但实际上比胶体磨要好。这是粉碎研磨的重要因素，相当于guo内胶体磨的2-3倍。

五、当所处理的物料要达到非常细的程度时候，对于设备的要求就会非常的高。而从设备角度来考虑的话，能够达到细的效果，要具备以下条件：

1、强的剪切力，CMSD2000系列研磨分散机转速高达14000rpm，线速度为44m/s，是普通设备的4-5倍。

2、高精密度的定转子，细研磨分散机的定转子分为两级，一级为胶体磨磨头，采用三级错齿结构，磨头的沟槽的深度角度都符合流体力学的设计。第二级是分散头，IKN分散头有六种不同的规格，从粗到细，越来越密，分散效果佳。

3、机械密封，细的效果取决于高的转速，而转速越高机械密封的发热量就会越大，设备的机械密封是否能够耐的住这么高的转速，国内大多数厂家的机械密封是无法做到的，而IKN研磨分散机采用德国博格曼双端面机械密封，并配有机封冷却系统，可以承受高的转速，稳定性高。

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