紫外臭氧清洗机

     PSDP-UVT 内置加热盘系列:

  PSDP-UVT 新增加一个加热盘,将PSDP-UV的能力提升到了新的水平,使其能***化的分解有机分子物质。带PID反馈回路的数字控制器能**保持热盘的温度,温度范围可达150摄氏度。

  选项:OES-1000D臭氧消除系统(内置真空泵和催化型臭氧中和器,用于清洗完成后的臭氧消除)

  ?数字控制加热盘可以设置高达150摄氏度

  ?可调节托盘高度

  ?安全开关防止使用者被紫外光照射

  ?可编程数字控制器

  ?数字显示倒计时

  ?可执行暂停和终止指令

  ?内部存储器用于记录之前的参数设置

  ?高利用率和高灵活性

  ?室温操作,使用空气或是氧气

  一般特性:

  电源:100.120.20.240VAC.50-60周期。

  样品高度:所有系统都配置可调节高度的样品台,调节灯与样品之间的间距,并带位置锁定,标准样品台尺寸为UV格栅灯大小或更大。

  UV格栅灯:产生臭氧的低压汞格栅灯,带反射罩。灯管寿命大约为5000小时。

  UV反射罩:UV反射罩一般比UV格栅灯大一英寸。比如4×4英寸灯管反射罩尺寸是5×5英寸。

  样品放置:打开清洗腔上盖,露出样品台,允许360度装入样品。

  安全装置:当清洗腔打开时,系统安全锁会关掉UV灯。

  进出气口:标准配置2个气接口,可选更多。

  真空反应腔:选项客户化定制,铝或石英材料。

  温度范围:高达150摄氏度。

  臭氧中和器:中和器和泵用于臭氧排除。(PSD和PSDP选项)

  工作原理:

  PSDP-UVT系列产品通过产生185nm和254nm高强度UV光分解有机分子(污染物)。185nm的光可以将氧分子O2转变成活性的O3臭氧分子。254nm的光同时激发表面的有机分子,使其更容易被臭氧分子吸收并分解。由于臭氧分子存在时间短并且同时也被254nm光分解,样品台可以调节样品到灯管的距离来优化性能。PSD和PSDP分解有机污染物,然后形成CO2和H2O蒸气,同时也将臭氧分子转变成氧分子。

  典型应用包括:

  •表面的原子级清洗

  •聚合物粘接

  •去除有机分子

  •释放捕获的无机分子

  •微流控制作

  •微米/纳米构型

  •紫外光固化

  •表面化学改性

  •表面杀菌

  •表面氧化

  •金属粘结准备……

紫外臭氧清洗机

2019/11/22

点击阅读全文 >>