XTK-2200TD型激光痕量气体分析仪
概述：
XTK-2200TD型激光痕量气体分析仪，通过将智能气体预处理技术、半导体激光吸收光谱(DLAS)技术、长光程气室技术、三者结合在一起，使得产品在集成了智能预处理系统的同时，具备痕量气体检测的高性能，高可靠性，为天然气、石化、化工、钢铁等行业的痕量气体分析提供理想的解决方案。
优势特点：
█ 激光（TDLAS） 技术
无交叉干扰：测量不受背景气、粉尘交叉干扰，测量更准确；
响应快：响应速度≦1S，实现工业现场实时分析；
寿命长：光源寿命长达 5~10年；
维护量小：在线技术，无需拆卸设备；
█ 全新光路设计，测量精度高
采用长光程技术，多次反射，比传统对射有更高的灵敏度和测量精度；
无需现场对光，使用方便；
█ 双通道智能吹扫系统
一路进气，另一路反吹，双通道交替使用，保证取样连续稳定，达到分析要求；
█ 隔爆设计更安全
隔爆设计，比正压防爆更安全；
█ 高集成，成本更低
旁路原位安装，无需分析小屋，节约成本；
支持伴热（选配），保障低温环境正常使用；
█ 物联网技术（可选）
支持无线物联网模块， 远程控制、无线传输，运行及分析数据多终端显示， 可查看设备实时运行状态、透过率等信息，并提供报警记录、 历史数据查询，信息能以短信方式推送相关人员
现场安装：
◆ 安装到正压区，水平/垂直安装均可，现场需配备高纯氮气或仪表吹扫气
◆ 无需配置分析小屋；
◆ 无需配套预处理系统；
◆ 原位安装，开孔方便，无需现场对光；
技术参数：|
分析仪 |
类别 |
参数 |
指标 |
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激光痕量 气体分析仪 |
技术指标 |
测量组分 |
H2S： 0-200ppm H2： 0-10%,0-* NH3： 0-10ppm， HCL： 0-20ppm， |
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线性误差 |
≤±0.5%F.S./半年 |
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量程漂移 |
≤±0.5%F.S./半年 |
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零点漂移 |
≤±0.5%F.S./半年 |
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重 复 性 |
＜1% |
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防爆等级 |
ExdIICT6 Gb |
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防护等级 |
IP65 |
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响应时间 |
≤1s（T90） |
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接口信号 |
模拟量输出 |
2路4～ 20mA电流（隔离、 *负载750Ω） |
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继电器输出 |
2路输出（继电器规格： 24V， 1A） |
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模拟量输入 |
2路4～ 20mA电流（温度、 压力补偿） |
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通讯接口 |
RS485/RS232/GPRS（可选） |
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电气特性 |
电 源 |
24VDC（18～ 36VDC） |
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功 耗 |
＜ 25W（分析仪主机） |
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工作条件 |
环境温度 |
-35～ 60℃ |
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吹扫气体 |
0.3～ 0.8MPa工业氮气或干燥洁净仪表气等 |
