一、美国NXQ紫外掩膜光刻机产品概述：

NXQ MASK ALIGNER光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中，NXQ4000系列光刻机是以半自动系统为主。该系统优越的操作性，高的分辨率，均匀的光学系统，稳定的接近式和接触式光刻及高的，使恩科优光刻系统已经被各地众多*企业、研发中心、研究所和高校采用。

二、美国NXQ紫外掩膜光刻机技术参数：

1、芯片尺寸：5mm~150mm的圆片/方片和不规则碎片（支持对不规则碎片的特殊卡盘设计）；

2、曝光波长：350nm-450nm（其它波长可选配）；

3、汞灯功率：350W/500W（其它功率可选配）；

4、分辨率：优于0.5um；

5、曝光模式：支持接近式曝光，各种接触式（真空接触、软接触、硬接触等）曝光；

6、出射光强范围：10mW/cm2~55mW/cm2@405nm；

7、支持恒定光强或恒定功率模式；

8、曝光时间：0.1~999.9s；

9、对准精度：双高清彩色CCD + 双高清彩色监视器，对准精度可达到0.4微米内；

10、掩膜尺寸：2 x 2英寸到 9 x 9英寸(2 x 2英寸需要掩膜转换器)；

11、光强均匀性Uniformity：

<±1% over 2" 区域；

<±2% over 4" 区域；

<±3% over 6" 区域；

12、双面光刻：具备背面红外对准（IR BSA）和光学背面对准（OBS BSA），双面对准精度≤2μm；

13、电源：高灵敏度光强可控电源。

14、可选型号：

NXQ400-6  、NXQ400-8、NXQ800-6、NXQ8006 Sapphire、NXQ800-8 。

三、产品特点：

1、可选支持单面对准和双面对准设计；

2、高清晰彩色双CCD镜头采用*的分裂视场显微镜镜头（基于无限远修正的CCD镜头设计）；

3、双头高清全彩物镜（单视场或分裂视场可供用户灵活选择）；

4、高清彩色双显示屏；

5、全新气动轴承导轨设计，高*，低磨损，无需售后维护的；

6、具有自动执行楔形误差补偿，并在找平后自动定位功能；

7、操作简易，具有支持多操作员同台使用的友好操作界面；

8、操控手柄调控模式的*设计；

9、采用LED穿透物镜照明技术，具有*的对准亮度；

10、采用基于无限远修正的显微镜镜头架构；

11、抗衍射反射的高效光学光路设计；

12、带安全保护功能的温度和气流传感器；

13、全景准直透镜光线偏差半角:<1.84度；

14、设备稳定性，耐用性高；