SU-8光刻胶
SU-8光刻胶克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题，在近紫外光（365nm-400nm）范围内光吸收度很低，且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致，可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形；它还具有良好的力学性能、抗化学腐蚀性和热稳定性；在受到紫外辐射后发生交联，是一种化学扩大负性胶，可以形成台阶等结构复杂的图形；在电镀时可以直接作为绝缘体使用。
AZ光刻胶
AZ光刻胶刻蚀厚度从1μm到150μm以及更厚。高感光度,高产出率；高附着性,特别为湿法刻蚀工艺改进；广泛应用于全球半导体行业。
产品型号
| 光刻胶名称 | 型号 | 匀胶厚度 |
| Merck AZ 正/负可转换型光刻胶 | AZ 5214 | 0.5-6um |
| AZ 50XT 正胶 | AZ 50XT | 40-80um |
| AZ 9260 正胶 | AZ 9260 | 6.2-15um |
| AZ 4620 光刻胶 | AZ 4620 | 10-15um |
| MicroChem SU-8 负胶 | SU-8 2015 | 13-38um |
| MicroChem SU-8 负胶 | SU-8 2050 | 40-170um |
| MicroChem SU-8 负胶 | SU-8 2075 | 60-240um |
| MicroChem SU-8 负胶 | SU-8 2150 | 190-650um |
| MicroChem SU-8 负胶 | SU-8 3010 | 8-15um |
| MicroChem SU-8 负胶 | SU-8 3050 |
44-100um |
