PLASMA WAND 是一款可以握在手中操作的等离子体发生设备，无需外部气体，只需接通电源即可工作运行。PlasmaWand是一款的小型设备，适用于研究所，大学的实验室，或者任何需要小型等离子设备的场合。

      PLASMA WAND非常适合大样品焊接或粘合前的表面清洗和表面活化处理。Plasma Wand是一体化等离子装置，虽然简单却可以提供多种功能的解决方案，同其他等离子系统一样，提供一致的和可重复的结果。

 

PLASMA WAND喷嘴包括：

1.      标准喷嘴：用于清洗塑料、橡胶和绝缘材料。

2.      近距离喷嘴：用于清洗金属和导电材料

3.      多组分气体喷嘴：使用氩气或氦气作为输入气体。

 

       PE公司成立于1980年，致力于提供电子行业用的等离子设备及相关服务。通过几十年的发展，公司发展成为提供等离子设备方面的，可为客户提供的产品和解决方案，先后众多企业提供等离子处理设备：美国宇航局NASA, 美国波音Boeing，的电子保安系统产品制造商美国霍尼韦尔Honeywell，美国摩托罗拉Moto, 德国拜耳Bayer，世界飞机的企业美国洛克希德马丁Lockheed-Martin等等。

   

      Plasma Etch拥有多项发明，在开发和制造等离子设备方面有许多突破性创新，公司拥有等离子体技术和制造技术领域里的技术。这些技术的产品线是公司独有的，生产的等离子设备是业界的集清洗速度、完整均匀性、安全可靠性为一体的等离子处理设备。

 

标   准   配   置
重量	6盎司/170克
发生器	30w集成电源
气体输入	空气/氩气/氦气
等离子体温度	< 50℃
工作距离	5~10mm
处理宽度	5~20mm