KD-1型大面积曝光机

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KD-1型大面积曝光机 

KD-1型大面积曝光机 
产品型号 KD-1型大面积曝光机
         本机适用于液晶、特种器件、特种电路、传感器及制版、晒版、印刷电路板、标牌和在金属薄片上制作精密图形等。
主要技术参数：
1、基片尺寸（mm）： ≤200*200，厚度（mm）：≤5 
2、基片材料： 硅片、玻璃、陶瓷、铌酸锂、覆箔板、铝板、铜板和不锈钢板等 
3、掩模材料： 玻璃、涤纶片 
4、曝光幅面（mm）：  200*200 
5、曝光谱线（nm）： 365、405 
6、曝光均匀性： ≤±10% 
7、曝光方法： （a）真空接触曝光；（b）接触曝光
8、曝光分辨率（mm）： ≤0.01 
9、曝光时间（s）： 0.1~99.9 
10、外界要求： 真空源≤-0.08Mpa。电源220V±10%

台湾全信电子仪器有限公司

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