JKG-2B

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JKG-2B型双面光刻机 

JKG-2B型双面光刻机 
产品型号 JKG-2B型 双面光刻机
        本机是专为生产中、大规模集成电路、CCD、表面波、磁泡、微波等器件的光刻需要而设计制造的。它可以将两块掩模上的各种图案经紫外光束的曝光，从上下两面分别或同时转印至硅片或其它基片的正反面上，再经其它工序的处理，从而获得完整的微电子器件。
  本机为适应各电子器件厂对JKG-2A型光刻机的使用惯，故保留了JKG-2A型光刻机部分操作程序，尤其是为了提高光刻的质量，本机的结构、精度以及性能等方面作了大幅度的改进。为减少使用者的疲劳，显微镜采用双目观察和平视场物镜，成像清晰，景深较长。由于本机具有上述种种特点，是成批生产微电子器件较为适合的光刻设备。 
  主要技术参数：
1、适用的掩模尺寸： 100*100*2~3mm或75*75*2~3mm 
2、适用的基片幅面尺寸： ф50或ф75mm 
3、曝光分辨率： 3~4чm 
4、掩模与硅片之间的相对位移范围： X、Y各≥±2.5mm； θ（旋转）≥±5° 
5、工作台综合移动范围： X±37.5mm、Y±20mm 
6、曝光系统： GCQ200W高压球形汞灯，曝光波长：300~436nm 
7、曝光系统能量不低于： 波长407nm； 7mW/cm2 
8、曝光系统的照明不均匀性在ф75mm范围内 ±5% 
9、显微镜的照明波长 ≈545nm 
10、曝光时间控制范围： 0.01秒~99.99分 
11、双目显微镜的调焦范围： 13mm 
12、双目显微镜的放大倍率： a.成对目镜，共两种：10*、16*； b.平视场物镜，共两种：6*、9*；
                                         c.合成放大倍率：60*~144* 
13、真空接触压力：  ≥0.7kgf 
14、供电电源： a.频率：50HZ（Z频）；b.额定输入电压：190V~230V；c.功率消耗：≤300VA 
15、外形尺寸： 800*1440*650mm 
16、重量： ≈80kg
  

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