SEN日森
紫外线清洗
紫外光清洗的工作原理
紫外光清洗技术是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除黏附在材料表面上的有机物质，经过光清洗后的材料表面可以达到“原子清洁度”。更详尽的讲：UV光源发射波长为185nm和254nm的光波，具有很高的能量,当这些光子作用到被清洗物体表面时,由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外光具有较强的吸收能力,并在吸收185nm波长的紫外光的能量后分解成离子、游离态原子、受激分子和中子，这就是所谓光敏作用。空气中的氧气分子在吸收了185nm波长的紫外光后也会产生臭氧和原子氧。臭氧对254nm波长的紫外光同样具有强烈的吸收作用,臭氧又分解为原子氧和氧气。其中原子氧是极活泼的,在它作用下,物体表面上的碳和碳氢化合物的分解物可化合成可挥发的气体：二氧化碳和水蒸气等逸出表面，从而清除了黏附在物体表面上的碳和有机污染物。清洗时，使基板治湿性向上。玻璃基板是以滚轮方式输送，上方装置低压水银灯产生紫外线照射。玻璃基板所累积紫外线能量愈多，其表面水接触愈小，成反比关系。一般STN-LCD制作过程中，需求的玻璃基板累积紫外线能量为300nj/cm2(253.7nm)以上。而彩STN-LCD及彩色滤光片制作过程中，要求的玻璃基板累积紫外线能量600mj/cm2(253.7nm)。
适用范围
液晶显示器件、触摸屏、半导体硅芯片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料
主要材料：ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅芯片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理。可以去除污垢：有机性污垢、人体皮脂、化妆品油脂、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余的光刻胶等
使用紫外线清洗时要注意以下几个方面：（1） 污垢中的无极成分或处理后的灰分会残留在物体表面，因此需要采用相应的办法进一步清除，如加装真空除尘或与超声波干洗配套使用。（2）处理时，当清洗对象表面与照射光源距离稍远时，产生的臭氧会自动分解失去作用，一定要注意清洗表面与光源的距离，也就是注意平台或传送带上工件的高度或厚度。（3）这种处理方法要求紫外线能透过清洗对象表面，对有立体结构的清洗对象不太适合，只能清洗表面结构的物体。（4）由于需防止臭氧扩散对人体造成损害，需要在封闭装置中进行清洗。（5）由于臭氧是通过氧化反应去除污垢的，所以容易被氧化的表面不能用这种方法处理。
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紫外线清洗
紫外光清洗的工作原理
紫外光清洗技术是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除黏附在材料表面上的有机物质，经过光清洗后的材料表面可以达到“原子清洁度”。更详尽的讲：UV光源发射波长为185nm和254nm的光波，具有很高的能量,当这些光子作用到被清洗物体表面时,由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外光具有较强的吸收能力,并在吸收185nm波长的紫外光的能量后分解成离子、游离态原子、受激分子和中子，这就是所谓光敏作用。空气中的氧气分子在吸收了185nm波长的紫外光后也会产生臭氧和原子氧。臭氧对254nm波长的紫外光同样具有强烈的吸收作用,臭氧又分解为原子氧和氧气。其中原子氧是极活泼的,在它作用下,物体表面上的碳和碳氢化合物的分解物可化合成可挥发的气体：二氧化碳和水蒸气等逸出表面，从而清除了黏附在物体表面上的碳和有机污染物。清洗时，使基板治湿性向上。玻璃基板是以滚轮方式输送，上方装置低压水银灯产生紫外线照射。玻璃基板所累积紫外线能量愈多，其表面水接触愈小，成反比关系。一般STN-LCD制作过程中，需求的玻璃基板累积紫外线能量为300nj/cm2(253.7nm)以上。而彩STN-LCD及彩色滤光片制作过程中，要求的玻璃基板累积紫外线能量600mj/cm2(253.7nm)。
适用范围
液晶显示器件、触摸屏、半导体硅芯片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料
主要材料：ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅芯片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理。可以去除污垢：有机性污垢、人体皮脂、化妆品油脂、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余的光刻胶等
使用紫外线清洗时要注意以下几个方面：（1） 污垢中的无极成分或处理后的灰分会残留在物体表面，因此需要采用相应的办法进一步清除，如加装真空除尘或与超声波干洗配套使用。（2）处理时，当清洗对象表面与照射光源距离稍远时，产生的臭氧会自动分解失去作用，一定要注意清洗表面与光源的距离，也就是注意平台或传送带上工件的高度或厚度。（3）这种处理方法要求紫外线能透过清洗对象表面，对有立体结构的清洗对象不太适合，只能清洗表面结构的物体。（4）由于需防止臭氧扩散对人体造成损害，需要在封闭装置中进行清洗。（5）由于臭氧是通过氧化反应去除污垢的，所以容易被氧化的表面不能用这种方法处理。
公司介绍: 深圳市京都玉崎电子有限公司一直专注于液晶LCD/LCM, 电路板PCB, PDP, IC半导体, 医疗等行业特殊光源, 是具性和规模性公司。产品由日本、英国、美国、德国, 荷兰等名厂生产直接进口, 依靠产品质量及良好售前售后服务，已获得世界五百强企业客户信赖。
光源: EYE岩崎、SEN日森、USHIO牛尾、REVOX莱宝克斯、CCS希希爱视、SERIC索莱克、TOPCON拓普康、NDK电色、ORIHARA折原、LUCEO鲁机欧、FUNATECH船越龙、SAKAZUME坂诘电子、HIKARIYA光屋、KKIMAC、DNP大日本等几十个的光源， 品种达数千种之多。
光源类别：紫外线UV灯, 光清洗灯, 曝光灯, UV点光源灯，晒版灯，医疗光源灯，红外线IR灯，消毒杀菌灯，卤钨灯，氙灯, 防紫外线灯，光学仪器灯，标准光源等。
设备：日本SEN、志圣、群翊、三英、吉英、川宝、艺精、威创新、合荣、旺昌、大祥、罗兰、小森、海德堡、高宝、ORC、AUTOMA、OLEC、COLIGHT、HI-TECH、HAKUTO等。
设备耗材：UV固化机，UV光清洗机, 光表面处理机，曝光机，点光源机，UV能量计，UV电源，晒板机，冲网版机, 冲/复片机，水套，离子罐，SDI麦拉膜，曝光尺，真空泵,LED电光源，光谱仪，粒子计数器等。
客户分布：液晶(LCD/LCM)，电路板（PCB/FPC），IC半导体，PDP，医疗，电子器件，塑胶，喷涂, 印刷包装，光纤/光盘/光头, 制鞋，木业，涂料，化工，食品，饮料，水处理, 太阳能, 环境科学，医疗设备、实验仪器、教学仪器、影视拍摄、摄影冲印、工业光固化、舞台舞厅及净化设备。
代理
光源部：EYE岩崎、SEN日森、USHIO牛尾、REVOX莱宝克斯、CCS晰写速、
SERIC索莱克、TOPCON拓普康、NDK电色、ORIHARA折原、LUCEO鲁机欧、
FUNATECH船越龙、SAKAZUME坂诘电子、HIKARIYA光屋、KKIMAC、DNP大日本
科研
计测部：NEWKON新光、SANKO三高、SAKAGUCHI坂口电热、OKANO冈野、
ONOSOKKI小野、TOKYO DENSHOKU东京电色、NDK日本电色、MITUTOYO三丰、
PEACOCK孔雀、KYOWA共和
科仪部：EYELA东京理化、DRY-CABI德瑞卡比 、T&D、ASKER高分子计器、
KUSANO草野科学、IMV艾目微，AND爱安得、大菱OBISHI、高砂TAKASAGO、
ASONE亚速旺、ELMEX安科生物、SAKURAI樱井、NS日本精密科学、SONIC索尼
克、SIBATA柴田、SANSYO三商、HEIDON新东
联系方式:
深圳市京都玉崎电子有限公司
Shenzhen KyoTo TamaSaki Electronics Co.,Ltd
Adress：深圳市龙华新区龙华办事处建设路百富汇工业区D栋206
Sales Engineer：王迎军
Tel：（+86）755-28578111
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Business Assistant：张静霞
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