产品特点：1、可连接多个沉积源，沉积源的加载和更换方便；2、带有可视窗口和易于清洗的钟形玻璃罩；3、气动升降钟形罩；4、300l/s涡轮泵，爱德华真空泵（RV-8，6.9cfm）；5、可监控沉积速率和沉积厚度；6、自诊断、集成触摸屏，控制手套箱、钟形罩和蒸镀，包括自动泵、排气和内部诊断；7、旋转台高度、倾斜度和旋转速率可调，易于观测，方便更换遮罩、基板；8、4小时内可达到真空度：5*10-7托；9、对于许多应用，在20-30分钟内，当真空度达到约5*10-5时，开始沉积；10、根据用户要求订制。
该系统可以作为以下功能装置：1，研发级R&D镀膜设备，性能优异2，具备所有研发级别的镀膜要求3，高效的沉积速率，镀膜时间快4， 实验室中培训的佳工具主要的特点和的功能：1，小型，快速2，全自动化程序控制3，单靶或多靶联合溅射镀膜，多路气体管路4，共聚焦设计，靶尺寸：2英寸，3英寸，4英寸，衬底可做到200mm，旋转1-20RPM，以及Load-lock配置5，配置干泵+分子泵，可达高真空，适用高品质薄膜沉积。6， 可做直流溅射，射频溅射，100W射频偏压（用于衬底表面清洗）性能比高！
技术参数：l自动的换气与泄气功能，可以得到一致的膜厚，和佳的导电喷镀效果。l通过高效低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程，避免样品表面受损。l操作容易快捷，可全自动或手动进行喷镀操作，控制的参数包括自动放气以及氩气换气控制。l在自动模式下，可通过两种方式进行控制镀膜过程。可通过数字显示器控制得到可重现的喷镀效果，l数字化的喷镀电流控制不受样品室内氩气压力影响，可得到一致的镀膜速率和佳的镀膜效果。l可使用多种金属靶材：Au，Au/Pd,，Pt,，Pt/Pd（Au靶为标配），靶材更换快速方便。l样品室大小：直径120mmx120mm高(4.75x4.75")l样品台：可以装载12个SEM样品座，高度可调范围为50mml溅射控制：微处理器控制，安全互锁，可调，大电流40mA，程序化数字控制l溅射头：低电压平面磁控管，靶材更换快速，环绕暗区护罩l模拟计量：真空：Atm-0.001mbar，电流：0-50mAl控制方法:自动气体换气和泄气功能，自动处理排序，带有“暂停”控制的数字定时器（5－300s），自动放气.整个操作亦可全手动控制。l真空泵：原装进口，抽气速率:6.0m3/小时，真空度到0.1mb所需时间30秒.l桌上系统:真空泵可置于抗震台上，全金属集成耦合系统l保修期：免费保修一年
热蒸发镀膜NTE-3500（M）热蒸发系统概述：NANO-MASTER NTE-3500是一款PC计算机控制的台紧凑型立式热蒸发系统，在有机物和金属沉积方有广泛的应用。设备的设计经过非常慎重的考虑:在小的占地面积情况下实现干净、均匀、可控及可重复的工艺过程。它们具有低, 高性能以及高能力的特点，可满足于客户研发及小规模的应用要求。 NTE-3500热蒸发系统可以在设定的RMS电流下，或者在闭环的配置下操作，并且在这种情况下沉积速度的变化被用于调节RMS电流以维持恒定的沉积速度。NTE-3000（M）蒸发系统是一个台式系统，跟我们的溅射系统共享一个共同的平台；比如：橱柜，腔体，真空系统，计算机控制架构等方面都是一样的。的区别是一个使用磁控管，另一个使用加热坩埚.因此，在我们溅射系统上的许多技术同样适用到我们的热蒸发系统中，比如：样品台的加热，旋转，偏斜；涂覆前的等离子清洗，膜厚监测，序列或同时操作多源；钟罩、铝或不锈钢腔体；预真空锁以及自动装片/取片系统等。NTE-3500跟NSC-3500很像,除了样片台是在顶部并且样片是面朝下固定。因为有许多的共同点，我们可以提供NTS系列的系统(NTS-3000,NTS-3500, NTS-4000)，具有溅射和蒸发两种能力。通过计算机控制系统，我们可以在同一套系统上提供溅射和蒸发能力，这样可以充分利用溅射和蒸发技术，而无须中断真空。Nano-Master的蒸发系统的另一大优势是持续性地控制加热器电流，而不是震荡式控制加热器。系统装配固态电流控制电路，这点跟许多系统采用的自藕变压器不同。在该系统中，电流或者RMS值的持续时间被控制。用户可以选择一个设定值，它实际上是设定交流电半周期的部分，会出现跟钨加热器电线的交叉。这样，系统可以实现快速的电流控制，这使得闭环温度控制就可以实现。此外，电流控制以及温度控制，可以满足蒸发的苛刻要求，无论是对有机材料还是对金属。我们测量坩埚TB的RMS电压，RMS电流，和温度，并通过热电偶TC跟坩埚底部接触的方式测量温度。空坩埚的加热实验结果如下图所示，这些加热实验结果是在208V线电压下进行的。电流和电压(没有显示)通过RMS仪表测量。通过以上的温度与电流的关系，我们可以设定并控制电流以达到坩埚内想要的温度，温度可以通过热电偶来测量。材料防止在坩埚中热损失和加热时间的常量将会发生变化，然而坩埚内的温度和热电偶的测量值之间的关系将不会变化。因此，我们的技术可以实现坩埚内的温度不依赖于大部分放入的材料，甚至不受线电压值的影响。NTE-3500（M）热蒸发系统产品特点：大可支持7”的方片或200mm的晶圆片沉积速度可控旋转的样品台双坩埚2KVA SRC控制电源晶振式膜厚监控仪通过LabView软件实现PC计算机控制NTE-3500（M）热蒸发系统相似产品型号：NTE-4000基于PC计算机全自动控制的系统NTE-3500基于PC计算机全自动控制的紧凑型系统NTE-3000基于PC计算机全自动控制的双蒸发源台式系统NTE-1000计算机控制的单蒸发源台式系统
VTC-100PA真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。主要特点1、真空吸附方式固定样件，操作简便。2、使用定位工具可将样件很容易地放在中心位置，以减少偏心而造成的震动或飞片。3、根据样件规格可以配用不同的吸盘，且更换方便简单。4、设有12组程序，每组包含6个运行阶段。5、电机启动快速稳定，可以保证涂层厚度的一致性和均匀性。技术参数1、电机功率：50W/24V2、速度范围：500-10000rpm3、程序运行：可储存12组程序，每组程序包含6个运行阶段4、增减速率设置范围：100rpm/s-2000rpm/s5、时间范围：0-60s6、吸盘：Φ19mm、Φ60mm7、本机可选配加热功能1）加温范围：室温——150℃2）加热盖，水槽及吸盘采用耐高温材质聚四3）温度单独控制，与主机程序控制无关联产品规格尺寸：450mm×280mm×340mm重量：20kg标准配件1、真空吸盘（含O型圈）2、中心（含4个定位柱）3、滴胶注射器（20ml）4、注射器支架5、无油真空泵6、橡胶管（含卡箍）可选配件过滤器（真空泵用）
