日本SEN特殊光源 PL17-110桌上型光表面处理装置(清洗机)
光源：PL17-110
電源：UVE-110-1H
PL17-110桌上型光表面处理装置
本装置是为了运用短波长紫外线进行表面处理、干式清洗的效果而作的试验机。所使用的光源为160mm*160mm1１0W合成石英玻璃的面光源。
a.紫外线表面清洗是近年来新兴的清洗方法。
紫外线表面清洗法不同于原有清洗法，没有废水，废气，废物产生。是高能环保型清洗杀菌方法。广泛运用于LCD,PCB，点子，印刷，塑胶，玻璃，涂装等领域。
紫外线清洗是是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除附着在材料表面的有机物质。经过光清洗后的材料表面可以达到原子级清洁度。
其主要原理为紫外线灯发出的185nm波长和254nm波长具有很高的能量，高于大多数有机物的结合能量。由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外线具有较强的吸收能力，并且可以在吸收185nm波长后分解成离子，流离态原子，受激分子和中子等，这就是光敏作用。空气中的氧分子在吸收了185nm波长的紫外光后，会产生臭氧和氧气，臭氧对254nm波长具有很强的吸收性，臭氧有可以分解为氧原子和氧气。氧原子具有极强的氧化性，可以将碳氢化合键切断，生成水和二氧化碳等易挥发气体，从被照射物表面飘逸出，清除物体表面的污染物。这就是紫外线清洗的原理。
清洗法有干洗和湿洗两种。干洗有UV臭氧清洗，等离子清洗，离子清洗等。湿洗有水洗，碱清洗，酸清洗，液体喷射清洗等。我们日常所熟悉的湿式清洗有可以清洗掉较大范围污染的优点。但是也会有清洗不掉的污染。同时由于清洗的溶剂会在被清洗物表面残留，因此对于高精密世界来说也是个污染。
与此相反UV紫外线清洗虽然不能清洗掉大范围的污染，却可以清洗到各个角落的就是光洗净技术（以下简称UV臭氧清洗）。在纳米技术世界里，我们虽然看不到有机性污染，但是有机污染在表面形成膜（软接着层）如果在这层膜上印刷的话，就会出现鲜度恶化以及针孔等障碍。UV臭氧清洗可以去除的污染有有机化合物以及含有油脂的污染等。
（供应商11-12推广到这）
b.产品介绍
PL1７-110桌上型光表面处理装置
本装置是为了运用短波长紫外线进行表面处理、干式清洗的效果而作的试验机。所使用的光源为160mm*160mm1１0W合成石英玻璃的面光源。
本机的正面为单开门，试验品可以很容易的放取。试验台到光源使用特定的升降机可以任意改变高度，照度可以使用照度计测定。机器内部产生的臭氧经过特别设置的排出口排出。为方便运输，将本体机体和电源分开设计。同时我们还有例如200mm角300mm角面光源，两面照射，抽出式试验台，旋转式照射台等多种姊妹产品供您选择。
构成和构造
光源到试验台之间*有80mm距离，因此无论是胶片型还是立体物品都可以处理。照射距离可使用手动升降机调节高度。
在门上设有观察窗，可以通过观察窗随时确认被照射物体的状态。
观察窗使用的玻璃只能透过300nm波长以上光波，对于185nm以及254nm波长的光波完全不会透过。因此即便通过观察窗观察也是非常安全的。
在门上我们还为测定仪器设定了专门的通过口。
我们使用外置风扇来冷却灯管和臭氧排出。连接器以及排气管都作为我们的附属品为您提供。
一般我们会将灯管发出的臭氧等废气直接排放到大气中，也会利用臭氧作触媒来分解。
电源品名UE1101N-19尺寸160×655×150H（mm）重量8kg电压AC100V50/60Hz功率250W时间累计器照射时间累计器，显示灯管照射时间照射时间0.1S～999H灯具品名PL1７-110尺寸300×250×300H（mm）重量10kg照射距离0～80mm（手动高度调节器）照射平台钢板、采用手动高度调节器（非固定）照射平台尺寸160×160(mm)
灯管和UV数值
PL1７-110使用的灯管为，110W的螺旋式面光源。灯管材质为合成石英玻璃，合成石英玻璃在185nm光波透过率为80%以上。
灯管规格160×160(mm)灯管型号SUV110GS-36灯管瓦数110W冷却方式强制空冷
