*等离子清洗机产品介绍
*等离子清洗机上海沛沅仪器设备有限公司*等离子清洗机,Pluto30是专为研发而设计的全功能等离子体系统,13.56MHz射频发生器和自动匹配网络电源在整个过程区域产生均匀的等离子体。
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等离子清洗机的清洗原理是在真空腔体里,通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体,通过等离子体轰击被清洗产品表面,以达到清洗目的。
中小型多功能等离子清洗机
在这种情况下,等离子处理可以产生以下效果:
1、灰化表面有机层
污染物在真空和瞬时高温下的部分蒸发,污染物被高能离子粉碎并被真空带走。
紫外辐射破坏污染物,由于等离子体处理每秒钟只能穿透几纳米,所以污染层不应该太厚。指纹也适用。
2、氧化物去除
这种处理包括使用氢或氢和氩的混合物。有时也采用两步流程。*步是用氧气氧化表面5分钟,第二步是用氢和氩的混合物除去氧化层。它也可以同时用几种气体处理。
3、焊接
通常,印刷电路板应在焊接前用化学药剂处理。焊接后,这些化学物质必须用等离子体法去除,否则会引起腐蚀和其他问题。
等离子清洗/刻蚀机产生等e69da5e6ba90e799bee5baa6e997aee7ad94335离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电场,用真空泵实现一定的真空度,随着气体愈来愈稀薄,分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长。中小型多功能等离子清洗机
受电场作用,它们发生碰撞而形成等离子体,这些离子的活性很高,其能量足以破坏几乎所有的化学键,在任何暴露的表面引起化学反应,不同气体的等离子体具有不同的化学性能,如氧气的等离子体具有很高的氧化性,能氧化光刻胶反应生成气体,从而达到清洗的效果;腐蚀性气体的等离子体具有很好的各向异性,这样就能满足刻蚀的需要。
中小型多功能等离子清洗机
利用等离子处理时会发出辉光,故称之为辉光放电处理。
等离子体清洗技术的*特点是不分处理对象的基材类型,均可进行处理,对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料,如聚丙烯、聚酯、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理,并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。
PLUTO-30 等离子体材料表面处理系统
中小型 量产级 多功能
Pluto30是专为研发而设计的全功能等离子体系统,13.56MHz射频发生器和自动匹配网络电源在整个过程区域产生均匀的等离子体。Pluto 30的真空腔可支持多达7个可调节样品架,以容纳各种形状尺寸的样品。Pluto30具有多种电极设置,可配置成RIE和PECVD模式,从而扩大了该系统的应用范围,提供给用户*的灵活性。
Pluto30参数
腔体
腔体尺寸
300W x 280H x 366Dmm
容量
30L
电极数量
多达7层
电极
电极间隙
48mm
功率电极尺寸
226W x 210D mm
接地电极尺寸
260W x 210D mm
射频系统
射频功率和频率
300W/13.56MHz
气体控制
MFC控制器
标配1个MFC,可选配4个MFC控制器
系统控制
7寸工业触控屏
全数字控制,实时显示工作状况,可设定操作权限和各种报警值,可储存工艺方案
真空泵系统
油泵
32m3/h
功率
220V/10A,50Hz,单相,3线
尺寸
外形尺寸
706W x 804D x 735H mm
特别装置
需求
工艺气体
0.25英寸. 气管快接.适用于 15-20psig;
净化气
0.25英寸. 气管快接. 适用于10-100psig
CDA
0.25英寸. 气管快接. 适用于60-90psig
排气接口
KF40
可选项
液体前驱体输送系统
500W/13.56MHz射频系统
37m3/h 干泵
排气洗涤器
油雾消除器
特征及优势
气体输送系统,提供气体分配均匀性和灵活的气体分配方法
不同工艺模式(RIE、下游等离子体等)的柔性电极配置
的射频系统提供*的工艺重复性和处理效率
全自动处理能力
图形用户界面支持配方编辑器、配方驱动流程并提供实时流程信息
台式设计需要较小的占地面积
典型应用
表面活化
提高表面能量以提高材料粘合性:预压模粘合;预焊线粘合
增强表面胶体流动性:预成型;预倒装芯片下溢
表面粗糙度和蚀刻
降低表面应力,改善表面粘结性
灰化和表面清洁
Plasma等离子蚀刻(配备RIE配置)
电介质/III-IV材料
纳米涂层(配备液体前体输送装置)
防腐纳米涂层:医疗器械,医疗植入物
耐水纳米涂层:印刷电路板表面处理
特征及优势
气体输送系统,提供气体分配均匀性和灵活的气体分配方法
不同工艺模式(RIE、下游等离子体等)的柔性电极配置
的射频系统提供*的工艺重复性和处理效率
全自动处理能力
图形用户界面支持配方编辑器、配方驱动流程并提供实时流程信息
台式设计需要较小的占地面积
典型应用
表面活化
提高表面能量以提高材料粘合性:预压模粘合;预焊线粘合
增强表面胶体流动性:预成型;预倒装芯片下溢
表面粗糙度和蚀刻降低表面应力,改善表面粘结性
灰化和表面清洁
Plasma等离子蚀刻(配备RIE配置)
电介质/III-IV材料
纳米涂层(配备液体前体输送装置)
耐水纳米涂层:印刷电路板表面处理
防腐纳米涂层:医疗器械,医疗植入物