废水中含复合离子的品种也增多，各工序须要解决的废水各不雷同，其中侵蚀基片的废水是以 为主的混杂酸，它被排出的量对比多。
半导体厂的废水品种很多，特殊是氟酸系废水是含有的混杂酸，其中还含有各种化合物，虽大局部被回收，但仍有一局部混在废水之中。侵蚀基片的废水含氟浓度高，侵蚀后的基片进行清洗时所发生的废水含氟浓度低。因而，可告别对含氟浓度高的和浓度低的废水进行解决，或将它们混杂在一起进行解决。
上海半导体废水处理设备的优点：
1、遭受冲击载荷的才能强，接触氧化法的均匀停留时光越6小时。
2、半导体废水解决具备除氮除磷才能，并可调剂装备构造，实现工业废水，生涯废水，城市废水解决才能。
3、接触氧化池中的填料多为软质填料，分量轻，强度高，物理化学性质稳固，比外表积大，生物膜附着力强，污水接触效力高和生物膜。
4、在接触氧化槽中，采取曝气机进行鼓风曝气，使纤维束延续浮动，曝气均匀，微生物成长成熟，得到活性污泥法的特征。
5、出水水质稳固，污泥产量小，易于解决。
6、潜水泵可装置在装备中，以增添工程投资。
7、易于实现主动掌握，治理和操作简朴。
8、能够衔接到汽车，使挪动装备。
