高精密无掩膜激光直写机-产业应用:集成电路(ASIC)

发布时间:2021-06-03

DWL2000/ DWL4000

高精密无掩膜激光直写机 / 光刻机

High Resolution Pattern Generators


高灵活度与高精度光刻的解决方案

DWL2000和DWL4000 激光光刻系统是快速及高灵活性的高分辨率图型发生器,用于制作掩膜版和可直接于产品上进行激光直写,

写入面积高达200x200 mm2,与400x400 mm2 。在二维曝光技术表现*,分辨率为低至500nm,可选配自动加载系统, 

除了高分辨率的二維图型之外,还提供灰度曝光模式,可在厚光刻胶中创建复杂的2.5D结构。


应用领域包括:MEMS、BioMEMS,微光学、集成电路(ASIC)、微流体、传感器。





关于我们

Stella International

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Stella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司,共同为客户带来综合应用效能,同时建立紧密的合作伙伴关系。

为了服务客户更广泛多元的应用领域,Stella International于 2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心,以海德堡原厂伙伴技术支援,提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究,这些年来已服务许多的国内大学,研究所与企业前期研发单位。




代理 介绍

德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备
HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM

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德国海德堡设备(Heidelberg Instruments),创始于1984年,在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。

应用范围包括:微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。

销售横跨欧洲、美国、亚洲等过700个以上销售据点,用于研发、快速原型制作和工业生产系统,是企业研究和发展的伙伴。

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