日本shinkuu台式真空蒸镀装置VE-2013

发布时间:2022-03-29

日本shinkuu台式真空蒸镀装置VE-2013

VE-2013是继承了VE-2030(本公司生产)概念的简易真空蒸镀装置。带有内置 TMP 的紧凑型外壳。由于是台式机,所以不占空间。RP 放在地板上。
我们提供具有小型 TMP + RP 排气系统且价格低廉的清洁、高真空气相沉积设备。它是一种全自动控制,消除了复杂的排气操作,只需打开/关闭触摸面板开关。
金、铝、铬、银等可以使用钨篮进行沉积。碳气相沉积使用使用碳 ( SLC-30 )蒸发的夹式气相沉积枪类型。(不能使用Φ5mm碳棒。)

碳蒸镀电极
日本shinkuu台式真空蒸镀装置VE-2013
碳蒸镀电极。
它可以在高真空区域进行碳气相沉积,并且可以形成具有优异膜质量和强度的碳膜。
附带的防污罩可*限度地减少碳蒸气沉积的散射范围,并减轻清洁负担。
碳(SLC-30)用作碳气相沉积源。
金属蒸镀电极
日本shinkuu台式真空蒸镀装置VE-2013
φ0.5mm 这是钨篮的金属蒸镀电极。
可以轻松轻松地沉积金、铝、铬等。附带的防污罩可*限度地减少气相沉积范围并减轻清洁负担。

主要产品规格

物品 规格
电源 AC100V(单相100V15A)
设备尺寸 宽 428 毫米,深 430 毫米,高 550 毫米
(设备重量 38 公斤)
旋转泵(外) 排气速度50ℓ/分钟(G-50DA)
(重量11kg)
涡轮泵(内置装置) 排气速度 67ℓ/秒
样品台 直径72mm
沉积源-样品台间距 可调范围为 0 mm 至 140 mm

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