Parylene采用了一种的化学气相沉积工艺（CVD）。CVD工艺*早应用于半导体工业的外延生长，整个过程是气态反应，又在真空条件下进行，因而可以获得非常均匀的涂层，达到其它方法难以实现的同形性。
派瑞林沉积过程过程主要有三步：
1. 真空130℃条件下固态派瑞林材料升华成气态。
2. 真空680℃条件下，将气态双份子裂解成活性单体。
3. 真空常温下，气态单体在基体上生长聚合。
派珂纳米研发生产派瑞林镀膜设备
派瑞林镀膜的方式为气相沉积CVD，其防护性能明显优于喷漆、环氧、电镀等传统三防工艺，广泛应用于电路板PCBA、线圈马达、硅橡胶制品、磁性材料、LEDOLED、传感器、电池、医疗产品等，上述产品经parylene镀膜后可起到防水、耐腐蚀、耐高压、耐盐雾的作用，可大大提高产品性能，延长使用寿命。
派珂纳米在行业内的优势：拥有20多年派瑞林镀膜经验，涉及到各行各业的产品；严格按照作业标准进行操作，严格把控质量；设备的设计结构，使得镀膜速度快、生产效率高，从而降低涂敷成本；设备容量大，可满足批量化生产客户的要求；镀膜均匀性好，同批次均匀性5%；跟原料厂家合作，让客户在原料的供应上后顾无忧；拥有研发团队，可研发、设计、生产派瑞林沉积设备，提供量身定制的解决方案；拥有万级洁净厂房，满足对洁净度要求较高的产品的加工环境需求。
