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在这个部位,玻璃材料起着限制带的作用,能减少由于内压应力造成的膨胀效力。瓶身驻波区---这个区域从瓶子的夹持和碰撞角度来看是很重要的。这一点在用吹吹法成型的瓶子上*明显,因为驻波是一个显著的特征,并且没有办法避免它。我们希望这个区域的玻璃但是厚度必需达到某一个要求以维持足够抗撞击的强度。接触点这些也是影响瓶子夹持和碰撞性能的关键区域。除非有足够的壁厚承受碰撞载荷,否则碰撞产生的应力会使容器损坏。
4WE6C73-6X/EG24N9K4
4WE6G6X/EG24Z5L
4WE6J6X/EG24N9Z4
4WE6E60/EG24N9K4/62
4WE6Q62/EG24NPK33L
4WE6J62/EW110N9K4
4WE6J6X/EW110N9K4/62
4WE 6 J6X/EW110N9K4/V
4WE6D62/EW110N9K4
4WE6D6X/EW110N9K4
4WE6D6X/EW230N9K4/V/60
4WE6D6X/OFEG24N9K4
4WE6D6X/OFEG220N9K4
4WE6D46-62/OFEG24N9K33L.SO407
4WE10D33/OFCG220N9K4/B10
4WE10MA33/OFCG24N9K4/V R900765089
4WS2EM10-51/60B11T315K31CV-114
4WS2EM10-51/90B11T315K31CV-114
4WEH32M6X/6EG24N9K4
4WEH10J4X/6EG24N9EK4/10B8S0269
4WEH10J4X/6EG24N9EK4/B10
4WEH32J6X/6EG24N9K4
4WEH16EB70/6EG24N9EK4/B10D3
4WEH10J45/6EG205N9ETS2K4
4WEH10J20/6AG24NETS2Z4
4WEH10J4X/6EG24N9ETS2K4
4WEH10D45/6EG205N9ETS2K4/B10
4WEH10E45/6EG205N9ETS2K4
4WEH16HD7X/OF6EG24N9ETK4/B10
4WEZ16E150-7X/6EG24N9EK31F1D3M
4WRZ16E150-70/6EG24N9ETK4/D3M
4WR225EA325-70/6EG24N9K4/D3M
4WRZ25EA325-70/6EG24N9K4/D3M
4WRE6V16-21/G24K4/V
4WREE6V08-20/G24K31/A1V
4WREE6V16-22/G24K31/AIV
4WREE6WA32-22/G24K31/A1V
4WREE6W1-08-2X/G24K31/F1V+插头
4WREE10W75-2X/G24K31/A1V
4WREE10W3-50-2X/G24K31/AIV
4WREE6E1-32-22/G24K31/A1R
4WREE6E1-32-22/G24K31/A1V
4WREE6E32-22/G24K31/A1V-655
4WREE6E1-32-2X/G24K31/F1V
4WRZ10E85-7X/6EG24N9EK4M
4WRZ16E150-7X/6EG24N9ETK4/M
4WRZ16W8-150-7X/6EG24N9ETK4/M
4WRZ16W6-150-7X/6EG24N9K4V
4WRZ25W8-220-7X/6EG24N9K4V
4WRZ25W9-220-7X/6EG24N9ETK4/M
4WRZ25W8-325-7X/6EG24N9ETK4/M
4WRZ32W1-520-5X/6A24N9ETZ4D3M
4WRZ32W8-520-7X/6EG24N9ETK4D3M+Z4
4WRZ32W9-520-7X/6EG24N9ETK4/M
将一价铜由5ppm降至5ppm，蚀刻速率会提高一倍以上。由于蚀刻反应过程中生成大量的一价铜离子，又由于一价铜离子是与氨的络合基紧紧的结合在一起，所以保持其含量近于零是十分困难的。通过大气中氧的作用将一价铜转换成二价铜可以去除一价铜。用喷淋的方式可以达到上述目的。这就是要将空气通入蚀刻箱的一个功能性的原因。但是如果空气太多，又会加速溶液中的氨损失而使PH值下降，其结果仍使蚀刻速率降低。氨在溶液中也是需要加以控制的变化量。
