日本cew光学微缺陷检测设备CEW

发布时间:2022-10-19

日本cew光学微缺陷检测设备CEW

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光学分辨率1.8μm,速度检测!

用于基板和金属表面的缺陷检测!

概述

使用高分辨率相机和高精度 XY 载物台的二维检测系统。
适用于光学薄膜、片材、触控面板等表面划痕、异物、缺陷的检测。
凭借 1.8 μm 的光学分辨率,可以进行高清检测。
它还可以测量尺寸和检查二维冲压产品。

特征

用法

用于检查触摸面板和异物等缺陷!



系统配置

日本cew光学微缺陷检测设备CEW

光学分辨率1.8μm,速度检测!

用于基板和金属表面的缺陷检测!

概述

使用高分辨率相机和高精度 XY 载物台的二维检测系统。
适用于光学薄膜、片材、触控面板等表面划痕、异物、缺陷的检测。
凭借 1.8 μm 的光学分辨率,可以进行高清检测。
它还可以测量尺寸和检查二维冲压产品。

特征

用法

用于检查触摸面板和异物等缺陷!







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