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CVD金刚石制成方法有热丝法、离子束溅射法、电子加速法、激光诱导法、等离子体增强化学气相沉积PECVD法、直流和高频电弧放电热等离子法等。在反应过程中，输入的能量、反应气体的激光状态、配比和沉积过程的成核模式等对于生成金刚石膜有决定性作用。衬底材料的晶型和点阵常数对金刚石膜成核生长影响很大。沉积金刚石薄膜和温度要求为600~900℃，因此，该技术常用硬质合金刀具表面沉积金刚石薄膜。CVD金刚石刀具可制成两种形式：一种是在集体上沉积厚度小于50μm的薄层膜，即CVD金刚石薄膜涂层刀具；另一种是沉积厚度达。
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《欧洲文化入门》王佐良主编.外语教学与研究出版社，2004年版。
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