北崎供应EBARA 荏原 G5-350 A1-A4 燃烧式废气处理器

发布时间:2025-03-13

北崎供应EBARA 荏原 G5-350 A1~A4 燃烧式废气处理器

北崎供应EBARA 荏原 G5-350 A1~A4 燃烧式废气处理器

北崎供应EBARA 荏原 G5-350 A1-A4 燃烧式废气处理器


G5 系列

可燃性气体和温室气体 (PFC) 气体的高效处理、燃烧式废气处理装置

燃烧废气处理系统
多种气体的批处理
PFC 气体的高效处理
副产品对策和粉末自动卸料功能
运行成本低
正常运行时间长
根据气体类型和体积按需运行
提高可维护性
提供 CE 标志/SEMI-S2/NRTL

产品介绍

G5 是一种燃烧式废气处理系统,能够高效处理制造过程中使用的各种气体。 可以一次处理多种气体,并且可以高效处理通常难以处理的 PFC 气体。 通过我们的副产品对策和根据要处理的气体类型和数量按需(可变燃料供应)作来降低运行成本。 它非常适合用于半导体、液晶面板、太阳能电池和 LED 等电子元件的制造、化学和材料制造商以及各种实验室。 还提供*流量为 1,200 L/min 的大流量型。

规范

单位 G5-350 A1~A4/P1~P4 G5-500 A1~A4/P1~P4 G5-600 A1~A4/P1~P4 G5-1200 A1~A4/P1~P4
加工方法 燃烧 + 湿式 燃烧 + 湿式 燃烧 + 湿式 燃烧 + 湿式
*进气量 升/分钟 350 500 600 1200
燃料 城市燃气/丙烷气选择 城市燃气/丙烷气选择 城市燃气/丙烷气选择 城市燃气/丙烷气选择
大小 宽 x 深 x 高 mm 1,200 x 650 x 1,900 1,200 x 650 x 1,900 1,200 x 1,100 x 2,000 1,200 x 1,100 x 2,200
可处理气体示例 工艺(库)气体
SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等
一般
清洁气体 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等 一般蚀
刻气体
HBr、Cl2、SiCl4、 BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。
PFC
CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。
工艺(库)气体
SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等
一般
清洁气体 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等 一般蚀
刻气体
HBr、Cl2、SiCl4、 BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。
PFC
CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。
工艺(库)气体
SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等
一般
清洁气体 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等 一般蚀
刻气体
HBr、Cl2、SiCl4、 BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。
PFC
CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。
工艺(库)气体
SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等
一般
清洁气体 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等 一般蚀
刻气体
HBr、Cl2、SiCl4、 BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。
PFC
CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。
标准设备 除粉 vernas 刮刀 除粉 vernas 刮刀 除粉 vernas 刮刀 除粉 vernas 刮刀
选择 市政水和废水消耗减少装置 市政水和废水消耗减少装置 市政水和废水消耗减少装置 市政水和废水消耗减少装置


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