G5型是制造工艺所用可高效处理各种气体的燃烧式废气处理装置。可批量处理多种气体,能够高效进行通常处理起来较为困难的PFCs气体的处理。通过**的副产物处理措施以及结合处理对象气体种类和数量实施的可调式(燃料供应量可调)运行,能够降低运行成本。该装置是半导体、液晶面板、太阳能电池和LED等电子元件制造以及化学材料工厂和各种研究室等用途的*佳选择。产品阵容还包括*大流量为1,200L/min的大流量机型。
燃烧式废气处理装置
批量处理多种气体
高效处理PFCs气体
副产物处理措施和粉尘自动排放功能
运行成本低
运行时间长
与气体种类和数量相适应的可调式运行
提高维护性能
可满足CE标示/SEMI-S2/NRTL要求
| 设备名称 | 单位 | G5-350 A1~A4/P1~P4 | G5-500 A1~A4/P1~P4 | G5-600 A1~A4/P1~P4 | G5-1200 A1~A4/P1~P4 |
| 处理方式 | 燃烧式 + 湿式 | 燃烧式 + 湿式 | 燃烧式 + 湿式 | 燃烧式 + 湿式 | |
| *大允许流入气体量 | L/min | 350 | 500 | 600 | 1200 |
| 燃料 | 选择城市燃气/丙烷气体 | 选择城市燃气/丙烷气体 | 选择城市燃气/丙烷气体 | 选择城市燃气/丙烷气体 | |
| 尺寸 | W x D x H mm | 1,200 x 650 x 1,900 | 1,200 x 650 x 1,900 | 1,200 x 1,100 x 2,000 | 1,200 x 1,100 x 2,200 |
| 可处**体例 | 工艺(沉积)气体 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2等 所有洁净气体 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2等 所有蚀刻气体 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6等 PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6等 | 工艺(沉积)气体 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2等 所有洁净气体 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2等 所有蚀刻气体 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6等 PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6等 | 工艺(沉积)气体 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2等 所有洁净气体 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2等 所有蚀刻气体 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6等 PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6等 | 工艺(沉积)气体 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2等 所有洁净气体 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2等 所有蚀刻气体 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6等 PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6等 | |
| 标准装备品 | 粉体去除用燃烧器刮板 | 粉体去除用燃烧器刮板 | 粉体去除用燃烧器刮板 | 粉体去除用燃烧器刮板 | |
| 选项 | 自来水、污水使用量削减单元 | 自来水、污水使用量削减单元 | 自来水、污水使用量削减单元 | 自来水、污水使用量削减单元 | |
