TGkine3400MI-B日本大坂真空OSAKA VACUUM节能加热型TGkineMI-B系列涡轮分子泵北崎热卖

带集成控制单元的磁悬浮型 TGkine-B系列®

集成控制器/电源。无需互连电缆/电缆管道，也无需机架安装。对系统设计造成的压力较小。延续了我们的 TG-M 系列传统。优化的复合转子设计提供*的性能。

带集成控制单元的磁悬浮式涡轮分子泵的横截面

节能加热型TGkineMI-B系列

TGkineMI-B 系列旨在降低涡轮分子泵 （TMP） 内部积聚的冷凝率。大阪的隔热结构和温度管理系统（TMS）生效。

• 我们针对 TMP 内积累的工艺副产品的节能解决方案

- 结合高速TMP转子产生的热量和内置的TMS（温度管理系统），泵内温度可有效控制至90°C，而不会有加速材料故障的风险 - 改善系统正常运行时间并延长MTBS（平均服务间隔时间）！

- 我们获得的节能隔热结构增强了整体热传递，同时保持了 TMP 内可能发生工艺副产品冷凝的热点，从而大大减少了副产品堆积。

- 改善泵的生命周期并减少泵维护要求的频率- 增加系统正常运行时间。

■ 我们的TGkine-MI突破 - 节能Theraml绝缘结构

- 我们获得的隔热结构可保留快速转子产生的压缩热并将其重新分配到 TMP 内的特定 hoto 点，从而防止工艺运行过程中的副产品冷凝。
- 与内置的TMS相结合，与直接TMS的标准方法相比，实现了节能效果。
- 改进的传热使用户能够有效地将泵的“内部”温度保持在高达 90°C - 这是工艺多功能性的显着改进。

应用

• 半导体工艺

• LCD/TFT/MEMS制造工具

• 规格

• 尺寸

• 性能曲线

半导体/电子元件

半导体器件是通过在晶圆上重复薄膜沉积、光刻胶曝光、蚀刻和离子植入等过程制造的。其中许多过程都是在真空环境中执行的，并检查其结果。干式真空泵用于中低真空工艺，涡轮分子泵和低温泵用于高真空工艺。

对于蚀刻，真空泵必须对所用气体具有耐腐蚀性、防止副产品沉积的温度控制、对大量工艺气体的高吞吐量性能以及对产生热量的冷却能力。安装灵活性也很重要。

我们TGkine MI-B系列®,TGkine MI-R 系列®TG-MI系列涡轮分子泵具有高抽速、耐腐蚀、温控能力强、高吞吐量性能、制冷量、安装灵活性等特点。

我们的TG-ML系列低振动磁悬浮涡轮分子泵用于光刻或CD-SEM和TEM设备，用于测量纳米制造结构。它们干净，具有*的低振动性能。