新品现货TAISEI大成技研 气体粉体除去装置 TU-KN100

大成技研株式会社提供的“气体粉末去除装置”主要去除半导体、液晶制造设备（离子注入、CVD、蚀刻等）中排出的气体反应生成物（微细粉末）。

特别是，通过旋转涡流吸附和高性能磁性元件，可以完全排除离子注入和CVD设备中产生的1μm以下的反应产物。该装置在元件内几乎没有压力损失，可用于真空泵的前级和后级，是一种创新的粉末捕集器，可以轻松处理现有过滤器无法去除的细粉末。它有望显着减少维护工时并提高生产率。

一些真空设备处理含有各种液体的样品和产品。此时，液体在真空处理过程中可以处于多种状态，如被汽化、被原样抽空、被吸入真空泵等。大成技研株式会社提供的气液分离器是收集作为液体吸入或排出的各种液体的捕集器。

气液分离TRAPACK利用磁性纤维的静电吸附作用吸附液化微细液体，并采用低密度、低损失的压力过滤元件实现液体的连续分离和回收，从气体中分离除去液体。陷阱过滤器。
当安装在真空泵的前级（真空管路）时，它可以收集和分离液体并保护真空泵。当安装在真空泵（排气管路）之后时，它提供油雾捕集功能。
这将延长制动液喷射器、清洁液干燥、与液体混合的真空设备的使用寿命，

SUN-3SPWE

SUN-4SPWZ

SUN-4SPEA

SUN-6SPWZ

SUN-3000

气体粉体除去装置

TU-KN100

TU-KN200

TU-KN500

TU-KN500W

TU-200

TU-250

TU-500

TU-500W

TU-1000