全自动磁控离子溅射仪 型号M31/GVC-2000库号D374697

库号：D374697 

 全自动控制，无需调整针阀

 镀膜颗粒小，无热损伤

 靶材换非常简单

 特殊密封结构，玻璃不易损坏

 内置操作向导，无需培训即可熟练操作

输入电源

220V/450W

靶材尺寸

φ57X0.12mm

工作介质

空气或氩气

抽速

1L/s

工作电流

5-45mA 连续可调

工作时间

1-999s 连续可调

放气

自动

外形尺寸

424 (L) x271 (D)X255(H)

可用靶材

金、铂、银、铜、锑等

真空室

高硅硼玻璃 φ125x125mm

真空泵

旋片泵(可选配干泵)

真空

1Pa

显示屏

5 英寸 800X480彩色触摸屏

进气

自动

名称 型号 数量

合格证 GVC-2000 1

说明书 GVC-2000 1

主机 GVC-2000 1

真空室 ~φ125×125mm 1

Pt靶 φ57×0.12mm 1

电源线 1.5米 1

内六角扳手 4/8 mm 2

备用保险管  1

卡箍及支架 K16 1

真空泵 VRD-4 1

波纹管 KF16/25-1500mm 1

油雾过滤器 KF25 1

真空脂 7501 1

无尘布 10

橡胶手套 5

清洁球 2

 全自动控制，无需调整针阀

 镀膜颗粒小，无热损伤

 靶材换非常简单

 特殊密封结构，玻璃不易损坏

 内置操作向导，无需培训即可熟练操作

输入电源

220V/450W

靶材尺寸

φ57X0.12mm

工作介质

空气或氩气

抽速

1L/s

工作电流

5-45mA 连续可调

工作时间

1-999s 连续可调

放气

自动

外形尺寸

424 (L) x271 (D)X255(H)

可用靶材

金、铂、银、铜、锑等

真空室

高硅硼玻璃 φ125x125mm

真空泵

旋片泵(可选配干泵)

真空

1Pa

显示屏

5 英寸 800X480彩色触摸屏

进气

自动

名称 型号 数量

合格证 GVC-2000 1

说明书 GVC-2000 1

主机 GVC-2000 1

真空室 ~φ125×125mm 1

Pt靶 φ57×0.12mm 1

电源线 1.5米 1

内六角扳手 4/8 mm 2

备用保险管  1

卡箍及支架 K16 1

真空泵 VRD-4 1

波纹管 KF16/25-1500mm 1

油雾过滤器 KF25 1

真空脂 7501 1

无尘布 10

橡胶手套 5

清洁球 2

 全自动控制，无需调整针阀

 镀膜颗粒小，无热损伤

 靶材换非常简单

 特殊密封结构，玻璃不易损坏

 内置操作向导，无需培训即可熟练操作

输入电源

220V/450W

靶材尺寸

φ57X0.12mm

工作介质

空气或氩气

抽速

1L/s

工作电流

5-45mA 连续可调

工作时间

1-999s 连续可调

放气

自动

外形尺寸

424 (L) x271 (D)X255(H)

可用靶材

金、铂、银、铜、锑等

真空室

高硅硼玻璃 φ125x125mm

真空泵

旋片泵(可选配干泵)

真空

1Pa

显示屏

5 英寸 800X480彩色触摸屏

进气

自动

名称 型号 数量

合格证 GVC-2000 1

说明书 GVC-2000 1

主机 GVC-2000 1

真空室 ~φ125×125mm 1

Pt靶 φ57×0.12mm 1

电源线 1.5米 1

内六角扳手 4/8 mm 2

备用保险管  1

卡箍及支架 K16 1

真空泵 VRD-4 1

波纹管 KF16/25-1500mm 1

油雾过滤器 KF25 1

真空脂 7501 1

无尘布 10

橡胶手套 5

清洁球 2