日本mitsuiec三井电气纳米压印装置TM-03

来源:北崎国际贸易(北京)有限公司
发布时间:2023-04-17 19:00:37

日本mitsuiec三井电气纳米压印装置TM-03

纳米压印

纳米压印法作为一种通过将几十nm~几百nm的精细加工模具压在树脂或玻璃上,在短时间内生产大量相同形状的零件的技术而受到关注。 该方法还大致分为热软化并进一步冷却和固化的热固性方法,以及使用UV固化树脂并用UV光固化的光固化方法。

型号 TM-02

Model TM-02

该装置的纳米压印装置可以用该单元实现热固性和光固化,并且通过顶部的印刷压力进行压印。

除了设置所需的压机负荷、速度、剥离负荷和剥离速度外,还可以在PC上记录研发原型生产所需的各种条件和测量结果,使其成为为未来生产设置条件发挥作用的设备。

【本设备的规格】

压印方法热固性法/光固化法
压力/负载率(压力)1~1000微米/秒
*负载室温 ~ 250°C
工件尺寸50×50毫米

【试验条件】



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型号 TM-03

Model TM-03

该设备是一种小型研究设备,可以印制20毫米×20毫米的样品。 到目前为止,我们制造的大多数压印设备都比较大,并且无法改善诸如研究成本负担和确保安装地点等问题,这些问题是世界压印设备所关注的问题。

因此,我们制造了一种小型的设备,可以在各种条件下以尽可能小的实验室空间进行研究。 它是一种主要用于大学研究和实验的设备,我们制造了这种尺寸的纳米压印装置,以消除纳米压印设备的引进成本高的形象,并考虑到设备的尺寸和可用性。 压印方法采用光固化方法,可以记录图形和表格数据。 您为什么不比以往更轻松地使用新技术制作原型和制造现场实验?

【本设备的规格】

压印方法光固化法
紫外线设备性能光强度 400mW/cm2
波长* 365mm
压榨剥离负载0.1~100N
样品尺寸20毫米×20毫米
压榨剥离速度1~1000微米/秒
权力交流100V
样品基板硅片/玻璃基板
设备重量约25公斤


每个数据图像

各データイメージ

各データイメージ

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Model TM-04

Model TM-04

到目前为止,纳米压印设备已经在各个地方进行了实验,并且每天都在进行研究以实际使用。 我们过去制造过各种压印设备,但我们没有制造简单的压印设备。

因此,我们制造了一种前所未有的纳米压印装置,可用于基于“便携式简单压印装置”的概念选择光固化电源或位置。 该设备配有LED型紫外灯,升降均由电机驱动,调节升降速度的操作简单。

*压力载荷为200 N可用作基材,*压力载荷为Φ20。 首先,建议那些想要使用简单的压印测试机以低成本创建样品的人使用。

【本设备的规格】

压印方法光固化法
紫外线设备性能光强度 6.0mW/cm2
波长 * 370mm
压力机负载1~20N
样品尺寸10mm×10mm
压榨剥离速度20毫米/秒
权力AC100V 或
DC12V 2.3A 小型电池
样品基板硅片/玻璃基板
设备尺寸高469×宽300×深200(毫米)

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型号 TMR-02

Model TMR-02

这是一种测试辊压印装置,通过将EB光刻设备形成的辊印模具的小直径辊(Φ30)雕刻的纳米图案转移到大直径辊(Φ150)上,并通过UV固化方法将小直径辊模转移到大直径辊上,将大直径辊模的纳米图案转移到薄膜上。

【本设备的规格】

压印方法热固性法/UV固化法
卷生Φ300×150
对象0.08~0.2吨
*辊压载荷500N
单位面积负载3.92牛/平方毫米
涂布方式尺寸压力机方法/逗号辊模方法



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