离线型线扫描薄膜厚度计是 Otsuka 线扫描系列通用台式检测设备，搭载线性光学扫描测头与光谱干涉检测光路，专为薄膜材料研发、产线离线抽样质检设计；整机台式一体化结构，无需嵌入自动化产线，可快速完成各类平板、卷材切片、光学基材整片表面全域厚度扫描，输出平面膜厚均匀性分布数据，兼顾通用性、高速检测与高精度无损测量，适配光学、光伏、电子材料多行业实验室、质检工位。
：Otsuka 大塚
型号：线扫描薄膜厚度计【离线通用型】
整机结构：台式一体化设备，内置电动 XY 线性扫描载台、光谱采集主机、分析软件
可测样品形态：平板薄膜、裁切卷材片材、玻璃基材、硬质涂层基板（不限晶圆）
检测原理：光谱干涉法，配套 MCPD 多通道光谱仪采集反射光谱
测量性能：全域平面高速扫描，一次性完整采集样品全表面厚度，纳米级测量精度
适用膜层：单层 / 多层光学涂层、ITO 导电膜、光刻胶、钝化层、高分子功能薄膜
耐受工况：常温洁净实验室、车间离线抽检工位，适配中性干燥介质（酸碱腐蚀工况需定制防腐款）
数据输出：二维膜厚分布云图、单点厚度数值、折射率 / 消光系数、均匀性报告，支持 CSV 导出
表格
| 型号 | 适用样品 | 核心定位 |
|---|---|---|
| 离线通用型线扫描膜厚计 | 通用平板、卷材切片、各类基材，不限晶圆 | 材料研发、产线多样化样品抽样质检，通用性强 |
| 离线晶圆兼容型线扫描膜厚计 | 6~12 英寸半导体硅晶圆 | 半导体芯片、晶圆制程专属全域膜厚检测 |
通用化离线台式设计，适配多品类样品无晶圆专属限制，平板、裁切卷材、玻璃、硬质涂层基材均可放置检测，一台设备覆盖光学、光伏、新材料多行业研发抽检，降低多设备采购成本。
全域线性扫描，完整评估膜厚均匀性电动线性扫描测头覆盖样品完整表面，区别单点检测设备，*捕捉片材边缘、中心区域厚薄偏差，生成二维厚度分布云图，直观评估涂布、镀膜工艺均匀性。
高速高精度无损光学检测光谱干涉光路无物理接触，不会划伤薄膜、基材；单次全域扫描耗时短，批量抽样检测效率大幅提升，重复性误差低，满足质量管控溯源要求。
低析出洁净光学系统光路、载台接触面镜面抛光，无金属颗粒、离子脱落，可放置于无尘车间用于光学膜、光伏玻璃洁净样品检测，无二次污染风险。
轻量化独立台式机身，灵活摆放无需产线嵌入式安装，可放置实验室操作台、质检工位，设备搬迁、切换样品无需改造产线，适配多工位共享使用。
离线抽样检测各类薄膜整片平面厚度均匀性，输出全域二维膜厚分布云图；
高速高精度解析单层 / 多层薄膜厚度、折射率、消光系数等光学常数；
非接触式无损测量，样品可重复多次测试，不会造成样品报废损耗；
适配研发配方迭代、产线批次抽样质检，完整留存检测数据用于工艺对比、品质追溯；
兼容 MCPD 系列光谱配件、V-KF 真空管路组件，拓展真空环境离线检测能力。
光学行业：增透膜、分光膜、偏光片切片样品离线均匀性抽检；
光伏产业：ITO 导电玻璃、钝化涂层、制绒薄膜实验室研发测试；
新材料实验室：高分子涂层、纳米功能薄膜、复合多层膜光学特性研究；
自动化产线：涂布、镀膜生产线离线抽样质检工位，多品类薄膜通用筛查。
搭配 MCPD 系列多通道光谱仪、V-KF 系列 KF 真空波纹管 / 密封垫圈、标准薄膜校准片，可搭建常规 / 真空离线薄膜检测系统。
含浓酸碱、卤素、氢氟酸腐蚀介质不可使用，腐蚀工况需定制特氟龙防腐光路；
放置区域避免强震动、强光直射，检测前清理样品表面粉尘、油污，防止漏率标；
定期使用标准校准片整机精度，保障长期测量重复性；
扫描载台运动区域禁止异物阻挡，避免机械碰撞损坏光学测头。
