山金原装 JEOL日本电子 JBX-8100FS系列 电子束光刻系统

与传统系统相比，JBX-8100FS 点型电子束光刻系统通过*限度地减少操作和光刻过程中的浪费时间来提高吞吐量，同时还实现了节省空间和低功耗。
特征
节省空间
标准占地面积为 4.9 米（宽）× 3.7 米（深）× 2.6 米（高），比之前的型号更加节省空间。
低功耗
正常情况下，功耗约为 3kVA，约为先前型号的三分。
高吞吐量
它具备两种模式：高分辨率绘图模式和高速绘图模式，能够胜任从精细加工到中小批量生产的各种应用。此外，它还能减少绘图过程中的不必要时间，并实现125MHz（世界*）的高速扫描，速度比传统机型快1.25到2.5倍。
版本
JBX-8100FS共有三个版本：G1（入门级型号）、G2（全配置型号）和G3（200 kV型号）。G1
型号安装后可添加选配件。
新功能
该设备可配备光学显微镜（可选），无需将光刻胶暴露于光线下即可观察材料上的图案。此外，标配信号塔，用于直观地监控设备的运行状态。
激光定位分辨率
默认情况下，平台位置以 0.6 nm 为单位进行测量和控制，但也可以以 0.15 nm 为单位进行控制（可选）。
设备控制
它运行于 Linux® 系统之上，并拥有用户友好的图形界面，即使是初学者也能轻松上手。此外，该数据准备程序同时兼容 Linux® 和 Windows® 系统。

隆重推出 200 kV 型号！
进入*加速电压达 200 kV 的世界
JBX-8100FS是一款点束光刻系统，专为满足各种高速、高精度应用而开发。其
可升级平台使其能够应用于从*纳米结构制造到化合物半导体器件制造等多个领域。
适用于厚膜光刻胶的三维加工。
下图显示了加速电压分别为 100 kV 和 200 kV 时的加工数据对比。
在 200 kV 的加速电压下进行加工可以减少锥度，并提高较厚光刻胶膜样品的垂直度。
100 kV 和 200 kV 加速电压的比较（样品：10 μm 厚薄膜光刻胶）